綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì) 公司采用水性光刻膠技術(shù)，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%，符合歐盟REACH法規(guī)和國(guó)內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí)，其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn)，通過(guò)膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用，年減排VOCs（揮發(fā)性有機(jī)物）超100噸。 低碳供應(yīng)鏈管理 吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開(kāi)發(fā)生物基樹(shù)脂，部分產(chǎn)品采用可再生原料（如植物基丙烯酸酯），碳排放強(qiáng)度較傳統(tǒng)工藝降低30%。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞，相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。 吉田技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)能力。吉林油墨光刻膠工廠 技術(shù)優(yōu)勢(shì)：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強(qiáng)大。 在光刻膠領(lǐng)域，芯片光刻膠為芯片制造中的精細(xì)光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持，確保芯片線路的精細(xì)刻畫(huà)； 納米壓印光刻膠適用于微納加工，助力制造超精細(xì)的微納結(jié)構(gòu)； LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)過(guò)程中的光刻需求，保障面板成像質(zhì)量。 在電子焊接方面，半導(dǎo)體錫膏與焊片性能，能實(shí)現(xiàn)可靠的電氣連接，廣泛應(yīng)用于各類電子設(shè)備組裝。 靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用，通過(guò)精細(xì)控制材料沉積，為半導(dǎo)體器件制造提供高質(zhì)量的薄膜材料。憑借出色品質(zhì)，遠(yuǎn)銷全球，深受眾多世界 500 強(qiáng)企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 。 光刻膠是有什么東西？云...

依托自主研發(fā)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈，吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%，躋身國(guó)內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂與單體，實(shí)現(xiàn) 100% 國(guó)產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過(guò)與國(guó)內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作，產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī)、電視等顯示終端，年供貨量超 200 噸。公司建立國(guó)產(chǎn)原材料溯源體系，確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性，推動(dòng) LCD 面板材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。 負(fù)性光刻膠生產(chǎn)廠家。福州激光光刻膠 ? 正性光刻膠 ? YK-300：適用于半導(dǎo)體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）、耐高溫...

納米制造與表面工程 ? 納米結(jié)構(gòu)模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過(guò)電子束光刻膠寫出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列、孔陣列），用于批量復(fù)制微流控芯片或柔性顯示基板。 ? 表面功能化：在基底表面構(gòu)建納米級(jí)粗糙度（如仿生荷葉超疏水表面）或化學(xué)圖案（引導(dǎo)細(xì)胞定向生長(zhǎng)的納米溝槽），用于生物醫(yī)學(xué)或能源材料（如電池電極的納米陣列結(jié)構(gòu)）。 量子技術(shù)與精密測(cè)量 ? 超導(dǎo)量子比特：在鈮酸鋰或硅基底上，通過(guò)光刻膠定義納米級(jí)約瑟夫森結(jié)陣列，構(gòu)建量子電路。 ? 納米傳感器：制備納米級(jí)懸臂梁（表面鍍光刻膠圖案化的金...

關(guān)鍵工藝流程 涂布： ? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠，厚度控制在0.1-5μm（依制程精度調(diào)整），需均勻無(wú)氣泡（旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm）。 前烘（Soft Bake）： ? 加熱（80-120℃）去除溶劑，固化膠膜，增強(qiáng)附著力（避免顯影時(shí)邊緣剝離）。 曝光： ? 光源匹配： ? G/I線膠：汞燈（適用于≥1μm線寬，如PCB、LCD）。 ? DUV膠（248nm/193nm）：KrF/ArF準(zhǔn)分子激光（用于28nm-1...

吉田半導(dǎo)體 SU-3 負(fù)性光刻膠：國(guó)產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝 自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3 微米厚膜加工，成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對(duì) 5G 芯片封裝需求，吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠，分辨率達(dá) 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學(xué)性確保復(fù)雜圖形的完整性，已應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與工藝，不采用國(guó)外材料，成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%，幫助客戶提升封裝良率至 98.5%，為國(guó)產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐。 松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!蘇州LCD光刻膠價(jià)格 正性光刻...

行業(yè)地位與競(jìng)爭(zhēng)格局 1. 國(guó)際對(duì)比 ? 技術(shù)定位：聚焦細(xì)分市場(chǎng)（如納米壓印、LCD），而國(guó)際巨頭（如JSR、東京應(yīng)化）主導(dǎo)半導(dǎo)體光刻膠（ArF、EUV）。 ? 成本優(yōu)勢(shì)：原材料自主化率超80%，成本低20%；國(guó)際巨頭依賴進(jìn)口原材料，成本較高。 ? 客戶響應(yīng)：48小時(shí)內(nèi)提供定制化解決方案，認(rèn)證周期為國(guó)際巨頭的1/5。 2. 國(guó)內(nèi)競(jìng)爭(zhēng) 國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)仍由日本企業(yè)壟斷（全球市占率超60%），但吉田在納米壓印、LCD光刻膠等領(lǐng)域具備替代進(jìn)口的潛力。與南大光電、晶瑞電材等企業(yè)相比，吉田在細(xì)分市...

市場(chǎng)與客戶優(yōu)勢(shì)：全球化布局與頭部客戶合作 全球客戶網(wǎng)絡(luò) 產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球，與三星、LG、京東方等世界500強(qiáng)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作，在東南亞、北美市場(chǎng)市占率超15%。 區(qū)域市場(chǎng)深耕 依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，與華為、OPPO等本土企業(yè)合作，在消費(fèi)電子、汽車電子領(lǐng)域快速響應(yīng)客戶需求。 產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢(shì)：原材料與設(shè)備協(xié)同 主要原材料自主化 公司自主生產(chǎn)光刻膠樹(shù)脂、光引發(fā)劑，降低對(duì)進(jìn)口依賴，成本較國(guó)際競(jìng)品低20%。 設(shè)備與工藝協(xié)同 與國(guó)內(nèi)涂膠顯影設(shè)備廠商合作，開(kāi)發(fā)適配國(guó)產(chǎn)...

國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速 日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后，國(guó)內(nèi)企業(yè)加速驗(yàn)證本土產(chǎn)品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產(chǎn)線2024年12月獲兩家大廠百萬(wàn)大單，二期300噸生產(chǎn)線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數(shù)接近日本UV1610，已通過(guò)中芯國(guó)際14nm工藝驗(yàn)證。預(yù)計(jì)到2025年，國(guó)內(nèi)KrF/ArF光刻膠國(guó)產(chǎn)化率將從不足5%提升至10%。 原材料國(guó)產(chǎn)化突破 光刻膠樹(shù)脂占成本50%-60%，八億時(shí)空的光刻膠樹(shù)脂產(chǎn)線預(yù)計(jì)2025年實(shí)現(xiàn)百噸級(jí)量產(chǎn)，其產(chǎn)品純度達(dá)到99.999%，金屬雜質(zhì)含量低于1ppb。怡達(dá)股份作為全球電子級(jí)PM溶劑前段（市占率超...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)，公司專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等領(lǐng)域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱，廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。 公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)積累，構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系，擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備及多項(xiàng)技術(shù)。原材料均選用美國(guó)、德國(guó)、日本進(jìn)口的材料，并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證，生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn)，確保...

晶圓制造（前道工藝） ? 功能：在硅片表面形成高精度電路圖形，是光刻工藝的主要材料。 ? 細(xì)分場(chǎng)景： ? 邏輯/存儲(chǔ)芯片：用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠（分辨率0.25-1μm）、14nm以下先進(jìn)制程的ArF浸沒(méi)式光刻膠（分辨率≤45nm），以及極紫外（EUV）光刻膠（目標(biāo)7nm以下，研發(fā)中）。 ? 功率半導(dǎo)體（如IGBT）：使用厚膜光刻膠（膜厚5-50μm），滿足深溝槽刻蝕需求。 ? MEMS傳感器：通過(guò)高深寬比光刻膠（如SU-8）實(shí)現(xiàn)微米級(jí)結(jié)構(gòu)（如加速度計(jì)、陀螺儀的懸臂梁）。 ...

研發(fā)投入的“高門檻” 一款KrF光刻膠的研發(fā)費(fèi)用約2億元，而國(guó)際巨頭年研發(fā)投入超10億美元。國(guó)內(nèi)企業(yè)如彤程新材2024年半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)營(yíng)收只5.4億元，研發(fā)投入占比不足15%，難以支撐長(zhǎng)期技術(shù)攻關(guān)。 2. 價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)的“雙重?cái)D壓” 國(guó)內(nèi)PCB光刻膠價(jià)格較國(guó)際低30%，但半導(dǎo)體光刻膠因性能差距，價(jià)格為進(jìn)口產(chǎn)品的70%，而成本卻高出20%。例如，國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠售價(jià)約150萬(wàn)元/噸，而日本同類產(chǎn)品為120萬(wàn)元/噸，且性能更優(yōu)。 突破路徑與未來(lái)展望 原材料國(guó)產(chǎn)化攻堅(jiān)：聚焦樹(shù)脂單體合成、光酸純化等關(guān)鍵環(huán)節(jié)，推動(dòng)八億時(shí)空、...

全品類覆蓋 吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等，覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求，技術(shù)布局全面性于多數(shù)國(guó)內(nèi)廠商。 關(guān)鍵技術(shù)突破 納米壓印技術(shù)：JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃，支持納米級(jí)精度圖案復(fù)制，適用于第三代半導(dǎo)體（GaN/SiC）及 Mini LED 等新興領(lǐng)域，技術(shù)指標(biāo)接近國(guó)際先進(jìn)水平。 水性環(huán)保配方：JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機(jī)溶劑，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn)，環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品。 厚膜工藝...

客戶需求導(dǎo)向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開(kāi)發(fā)光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢(shì)。 快速交付與售后支持 作為國(guó)內(nèi)廠商，吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源，交貨周期較進(jìn)口品牌縮短 30%-50%，并提供 7×24 小時(shí)技術(shù)響應(yīng)，降低客戶供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。 性價(jià)比優(yōu)勢(shì) 國(guó)產(chǎn)光刻膠價(jià)格普遍低于進(jìn)口產(chǎn)品 30%-50%，吉田半導(dǎo)體通過(guò)規(guī)?；a(chǎn)和供應(yīng)鏈優(yōu)化進(jìn)一步壓縮成本，同時(shí)保持性能對(duì)標(biāo)國(guó)際品牌，適合對(duì)成本敏感的中低端市場(chǎng)及國(guó)產(chǎn)替代需求。 政策與市場(chǎng)機(jī)遇 受益于國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢(shì)，吉田半導(dǎo)體作為 “專精特...

吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "專精特新" 企業(yè)，行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為，吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號(hào)，樹(shù)立行業(yè)。 憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn)，吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔(dān)多項(xiàng)國(guó)家 02 專項(xiàng)課題。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹(shù)脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)材料標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程。未來(lái)，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國(guó)半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景，深化技術(shù)研發(fā)與市場(chǎng)拓展，為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻(xiàn)" 中國(guó)力量 "。半導(dǎo)體芯片制造，用于精細(xì)電路圖案光刻，決定芯片性能與集成度。常州阻焊油墨光刻膠價(jià)格 憑借多年研發(fā)積累，公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富...

吉田半導(dǎo)體 SU-3 負(fù)性光刻膠：國(guó)產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝 自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3 微米厚膜加工，成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對(duì) 5G 芯片封裝需求，吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠，分辨率達(dá) 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學(xué)性確保復(fù)雜圖形的完整性，已應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與工藝，不采用國(guó)外材料，成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%，幫助客戶提升封裝良率至 98.5%，為國(guó)產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐。 廣東光刻膠廠家哪家好？青海激光光刻膠工廠 廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。 LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點(diǎn)，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝，能確保 LCD 生產(chǎn)過(guò)程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。 半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝，滿足半導(dǎo)體器件對(duì)光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中，比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或...

客戶需求導(dǎo)向 支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開(kāi)發(fā)光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢(shì)。 快速交付與售后支持 作為國(guó)內(nèi)廠商，吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源，交貨周期較進(jìn)口品牌縮短 30%-50%，并提供 7×24 小時(shí)技術(shù)響應(yīng)，降低客戶供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。 性價(jià)比優(yōu)勢(shì) 國(guó)產(chǎn)光刻膠價(jià)格普遍低于進(jìn)口產(chǎn)品 30%-50%，吉田半導(dǎo)體通過(guò)規(guī)?；a(chǎn)和供應(yīng)鏈優(yōu)化進(jìn)一步壓縮成本，同時(shí)保持性能對(duì)標(biāo)國(guó)際品牌，適合對(duì)成本敏感的中低端市場(chǎng)及國(guó)產(chǎn)替代需求。 政策與市場(chǎng)機(jī)遇 受益于國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢(shì)，吉田半導(dǎo)體作為 “專精特...

國(guó)家大基金三期：注冊(cè)資本3440億元，明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域，計(jì)劃投入超500億元支持樹(shù)脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。 地方專項(xiàng)政策：湖北省對(duì)通過(guò)驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購(gòu)補(bǔ)貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程國(guó)產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國(guó)際百萬(wàn)級(jí)訂單；福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%，光刻膠是重點(diǎn)突破方向。 研發(fā)專項(xiàng)：科技部“雙十計(jì)劃”設(shè)立20億元經(jīng)費(fèi)，要求2025年KrF/ArF光刻膠國(guó)產(chǎn)化率突破10%，并啟動(dòng)EUV光刻膠預(yù)研。 LCD 光刻膠供應(yīng)商哪家好？吉田半導(dǎo)體高分辨率 + 低 VOC 配方！遼寧LED光刻膠品牌...

以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動(dòng)，吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā)，搶占行業(yè)制高點(diǎn)。布局下一代光刻技術(shù)。 面對(duì)極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn)，吉田半導(dǎo)體與中科院合作開(kāi)發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠，在感光效率（<10mJ/cm2）和耐蝕性（>80%）指標(biāo)上取得階段性進(jìn)展。同時(shí)，公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā)，對(duì)標(biāo)日本王子控股技術(shù)，探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用。這些技術(shù)儲(chǔ)備為 7nm 及以下制程提供支撐，助力中國(guó)在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。光刻膠解決方案找吉田，ISO 認(rèn)證 +8S 管理，良率達(dá) 98%!中山厚膜光刻膠價(jià)格 納米壓印光刻膠 微納光學(xué)器件制造：制作衍射光學(xué)元件、微...

LCD顯示 ? 彩色濾光片（CF）： ? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。 ? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。 ? 陣列基板（Array）： ? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm。 OLED顯示（柔性/剛性） ? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu)，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應(yīng)蒸鍍工藝）。 ...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元，擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等，服務(wù)全球市場(chǎng)并與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作關(guān)系。 作為國(guó)家技術(shù)企業(yè)，吉田半導(dǎo)體以科技創(chuàng)新為驅(qū)動(dòng)力，擁有多項(xiàng)技術(shù)，并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量體系認(rèn)證。生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格遵循 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn)，原材料均采用美、德、日等國(guó)進(jìn)口的材料，確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠。公司配備全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備，具備行業(yè)大型的規(guī)模化生產(chǎn)能力，致力于成為 “半導(dǎo)體材料方案提...

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)與客戶認(rèn)證 公司通過(guò)ISO9001、ISO14001等認(rèn)證，并嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場(chǎng)管理，生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達(dá)Class 10級(jí)。其光刻膠產(chǎn)品已通過(guò)京東方、TCL華星的供應(yīng)商認(rèn)證，在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%，成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR、德國(guó)默克競(jìng)爭(zhēng)的廠商。 全流程可追溯體系 吉田半導(dǎo)體建立了從原材料入庫(kù)到成品出庫(kù)的全流程追溯系統(tǒng)，關(guān)鍵批次數(shù)據(jù)（如樹(shù)脂分子量分布、光敏劑純度）實(shí)時(shí)上傳云端，確保產(chǎn)品一致性和可追溯性。這一體系使其在車規(guī)級(jí)芯片等對(duì)可靠性要求極高的領(lǐng)域獲得突破，2023年車用光刻膠銷售額同比增長(zhǎng)120%。 政策支持：500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈。青島LCD光...

光刻膠系列： 厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年； 水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負(fù)性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g； 液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好； JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長(zhǎng)期可靠性高，粘接強(qiáng)度高，重量 100g； LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂...

研發(fā)投入 ? 擁有自己實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)團(tuán)隊(duì)，研發(fā)費(fèi)用占比超15%，聚焦EUV光刻膠前驅(qū)體、低缺陷納米壓印膠等前沿領(lǐng)域，與中山大學(xué)、華南理工大學(xué)建立產(chǎn)學(xué)研合作。 ? 專項(xiàng)布局：累計(jì)申請(qǐng)光刻膠相關(guān)的項(xiàng)目30余項(xiàng)，涵蓋樹(shù)脂合成、配方優(yōu)化、涂布工藝等細(xì)致環(huán)節(jié)。 生產(chǎn)體系 ? 全自動(dòng)化產(chǎn)線：采用德國(guó)曼茨（Manz）涂布設(shè)備、日本島津（Shimadzu）檢測(cè)儀器，年產(chǎn)能超500噸（光刻膠），支持小批量定制（小訂單100g）和大規(guī)模量產(chǎn)。 ? 潔凈環(huán)境：生產(chǎn)車間達(dá)萬(wàn)級(jí)潔凈標(biāo)準(zhǔn)（ISO 8級(jí)），避免顆粒污染，...

吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認(rèn)證，PCB 電路板制造 憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。 吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率達(dá) 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過(guò)歐盟 RoHS 認(rèn)證，采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方，符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率，確保復(fù)雜線路圖形的成型，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持，助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率。 吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā)，布局下一代光刻技術(shù)。成都厚膜光刻膠價(jià)格 ? 正性光刻...

國(guó)家大基金三期：注冊(cè)資本3440億元，明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域，計(jì)劃投入超500億元支持樹(shù)脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。 地方專項(xiàng)政策：湖北省對(duì)通過(guò)驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購(gòu)補(bǔ)貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程國(guó)產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國(guó)際百萬(wàn)級(jí)訂單；福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%，光刻膠是重點(diǎn)突破方向。 研發(fā)專項(xiàng)：科技部“雙十計(jì)劃”設(shè)立20億元經(jīng)費(fèi)，要求2025年KrF/ArF光刻膠國(guó)產(chǎn)化率突破10%，并啟動(dòng)EUV光刻膠預(yù)研。 東莞光刻膠廠家哪家好？大連高溫光刻膠報(bào)價(jià) 厚板光刻膠 電路板制造：在制作對(duì)...

正性光刻膠（如 YK-300） 應(yīng)用場(chǎng)景：用于芯片的精細(xì)圖案化，如集成電路（IC）、分立器件（二極管、三極管）的制造。 特點(diǎn)：高分辨率（可達(dá)亞微米級(jí)），適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性。 負(fù)性光刻膠（如 JT-1000） 應(yīng)用場(chǎng)景：用于功率半導(dǎo)體（如 MOSFET、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結(jié)構(gòu)成型。 特點(diǎn)：抗蝕刻能力強(qiáng)，適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。 納米壓印光刻膠（JT-2000） 應(yīng)用場(chǎng)景：第三代半導(dǎo)體（GaN、SiC）芯片、量子點(diǎn)器件及微流控芯片的制造...

技術(shù)挑戰(zhàn)與發(fā)展趨勢(shì) 更高分辨率需求： ? EUV光刻膠需解決“線邊緣粗糙度（LER）”問(wèn)題（目標(biāo)＜5nm），通過(guò)納米顆粒分散技術(shù)或新型聚合物設(shè)計(jì)改善。 缺陷控制： ? 半導(dǎo)體級(jí)正性膠要求金屬離子含量＜1ppb，顆粒（＞50nm）＜1個(gè)/mL，需優(yōu)化提純工藝（如多級(jí)過(guò)濾+真空蒸餾）。 國(guó)產(chǎn)化突破： ? 國(guó)內(nèi)企業(yè)（如上海新陽(yáng)、南大光電、容大感光）已在KrF/ArF膠實(shí)現(xiàn)批量供貨，但EUV膠仍被日本JSR、美國(guó)陶氏、德國(guó)默克壟斷，需突破樹(shù)脂合成、PAG純度等瓶頸。 ...

作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)品質(zhì)量視為重要發(fā)展動(dòng)力。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì)，持續(xù)為全球客戶提供多元化的半導(dǎo)體材料解決方案。 公司產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等，原材料均嚴(yán)格選用美國(guó)、德國(guó)、日本等國(guó)的質(zhì)量進(jìn)口材料。通過(guò)全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備與精細(xì)化工藝控制，確保每批次產(chǎn)品的穩(wěn)定性與一致性。例如，納米壓印光刻膠采用特殊配方，可耐受 250℃高溫及復(fù)雜化學(xué)環(huán)境，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造；LCD 光刻膠以高分辨率和穩(wěn)定性，成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。 ...