廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。
UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如半導體器件制造。
其他光刻膠
-
水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質保障、性能穩(wěn)定的特點，重量 1L。
-
水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢，應用場景。
產(chǎn)業(yè)鏈配套：原材料與設備協(xié)同發(fā)展。山東進口光刻膠品牌
關鍵應用領域
半導體制造：
在晶圓表面涂覆光刻膠，通過掩膜曝光、顯影，刻蝕出晶體管、電路等納米級結構（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。
印刷電路板（PCB）：
保護電路圖形或作為蝕刻抗蝕層，制作線路和焊盤。
顯示面板（LCD/OLED）：
用于制備彩色濾光片、電極圖案等。
微機電系統(tǒng)（MEMS）：
加工微結構（如傳感器、執(zhí)行器）。
工作原理（以正性膠為例）
1. 涂膠：在基材（如硅片）表面均勻旋涂光刻膠，烘干形成薄膜。
2. 曝光：通過掩膜版，用特定波長光線照射，曝光區(qū)域的光敏劑分解，使樹脂變得易溶于顯影液。
3. 顯影：用顯影液溶解曝光區(qū)域，留下未曝光的光刻膠圖案，作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層。
4. 后續(xù)工藝：刻蝕基材（保留未被光刻膠保護的區(qū)域），或去除光刻膠（剝離工藝）。
黑龍江光刻膠感光膠光刻膠是有什么東西？
吉田半導體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領域，通過差異化技術（如納米壓印、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方），滿足從傳統(tǒng)電子到新興領域（如第三代半導體、Mini LED）的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝，還通過材料創(chuàng)新推動行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展。吉田半導體光刻膠的優(yōu)勢在于技術全面性、環(huán)保創(chuàng)新、質量穩(wěn)定性及本土化服務，尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領域形成差異化競爭力。
光刻膠（如液晶平板顯示器光刻膠）
-
液晶平板顯示器制造：在液晶平板顯示器（LCD）的生產(chǎn)過程中，光刻膠用于制作液晶盒內的各種精細圖案，包括像素電極、公共電極、取向層圖案等。這些圖案的精度和質量直接影響液晶顯示器的顯示效果，如分辨率、對比度、視角等。
-
有機發(fā)光二極管顯示器（OLED）制造：OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關鍵結構。OLED 顯示器具有自發(fā)光、響應速度快等優(yōu)點，而光刻膠能保障其精細的像素結構制作，提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質量 。
松山湖光刻膠廠家吉田，23 年經(jīng)驗 + 全自動化產(chǎn)線，支持納米壓印光刻膠定制！
工藝流程
目的：去除基板表面油污、顆粒，增強感光膠附著力。
方法：
化學清洗（硫酸/雙氧水、去離子水）；
表面處理（硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化，PCB基板用粗化處理）。
涂布（Coating）
方式：
旋涂：半導體/顯示領域，厚度控制精確（納米至微米級），轉速500-5000rpm；
噴涂/輥涂：PCB/MEMS領域，適合大面積或厚膠（微米至百微米級，如負性膠可達100μm）。
關鍵參數(shù)：膠液黏度、涂布速度、基板溫度（影響厚度均勻性）。
前烘（Soft Bake）
目的：揮發(fā)溶劑，固化膠膜，增強附著力和穩(wěn)定性。
條件：
溫度：60-120℃（正性膠通常更低，如90℃；負性膠可至100℃以上）；
時間：5-30分鐘（根據(jù)膠厚調整，厚膠需更長時間）。
曝光（Exposure）
光源：
紫外光（UV）：G線（436nm）、I線（365nm）用于傳統(tǒng)光刻（分辨率≥1μm）；
深紫外（DUV）：248nm（KrF）、193nm（ArF）用于半導體先進制程（分辨率至20nm）；
極紫外（EUV）：13.5nm，用于7nm以下制程（只能正性膠適用）。
曝光方式：
接觸式/接近式：掩膜版與膠膜直接接觸（PCB、MEMS，低成本但精度低）；
投影式：通過物鏡聚焦（半導體，分辨率高，如ArF光刻機精度達22nm）。
半導體光刻膠：技術領域取得里程碑。青島水性光刻膠國產(chǎn)廠商
吉田半導體光刻膠，45nm 制程驗證，國產(chǎn)替代方案!山東進口光刻膠品牌
廣東吉田半導體材料有限公司憑借技術創(chuàng)新與質量優(yōu)勢，在半導體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品，其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強酸強堿環(huán)境，適用于高精度納米結構制造；LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。此外，公司還提供焊片、靶材等配套材料，滿足客戶多元化需求。
在技術層面，吉田半導體通過自主研發(fā)與國際合作結合，持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)工藝，實現(xiàn)全流程自動化控制。其生產(chǎn)基地配備先進設備，并嚴格執(zhí)行國際標準，確保產(chǎn)品性能達到國際水平。同時，公司注重人才培養(yǎng)與引進，匯聚化工、材料學等領域的專業(yè)團隊，為技術創(chuàng)新提供堅實支撐。未來，吉田半導體將繼續(xù)以 “中國前列半導體材料方案提供商” 為愿景，推動行業(yè)技術升級與國產(chǎn)化進程。
山東進口光刻膠品牌
