廣州激光光刻膠國產(chǎn)廠商 源頭廠家 吉田半導(dǎo)體供應(yīng)

發(fā)貨地點(diǎn):廣東省東莞市

發(fā)布時(shí)間:2025-05-24

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詳細(xì)信息

依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應(yīng)鏈,吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,躋身國內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體,實(shí)現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī)、電視等顯示終端,年供貨量超 200 噸。公司建立國產(chǎn)原材料溯源體系,確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,推動(dòng) LCD 面板材料國產(chǎn)化進(jìn)程。

PCB光刻膠國產(chǎn)化率超50%。廣州激光光刻膠國產(chǎn)廠商

廣州激光光刻膠國產(chǎn)廠商,光刻膠

光刻膠的工作原理:

1. 涂覆與曝光:在基底(如硅片、玻璃、聚合物)表面均勻涂覆光刻膠,通過掩膜(或直接電子束掃描)對(duì)特定區(qū)域曝光。

2. 化學(xué)變化:曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)(正性膠曝光后溶解,負(fù)性膠曝光后交聯(lián)不溶)。

3. 顯影與刻蝕:溶解未反應(yīng)的部分,留下圖案化的膠層,作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模,將圖案轉(zhuǎn)移到基底上。

在納米技術(shù)中,關(guān)鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限(λ/2),因此需依賴高能束曝光技術(shù)(如電子束光刻、極紫外EUV光刻)和高性能光刻膠(高分辨率、低缺陷)。

山西UV納米光刻膠廠家吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā),布局下一代光刻技術(shù)。

廣州激光光刻膠國產(chǎn)廠商,光刻膠

光刻膠系列

厚板光刻膠 JT - 3001,具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年;

水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L;SU - 3 負(fù)性光刻膠,分辨率優(yōu)異,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng),重量 100g;

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,分辨率高,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好;

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,長期可靠性高,粘接強(qiáng)度高,重量 100g;

LCD 正性光刻膠 YK - 200,具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力,重量 100g;

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g;

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,重量 1L。

行業(yè)地位與競爭格局

1. 國際對(duì)比

技術(shù)定位:聚焦細(xì)分市場(chǎng)(如納米壓印、LCD),而國際巨頭(如JSR、東京應(yīng)化)主導(dǎo)半導(dǎo)體光刻膠(ArF、EUV)。

成本優(yōu)勢(shì):原材料自主化率超80%,成本低20%;國際巨頭依賴進(jìn)口原材料,成本較高。

客戶響應(yīng):48小時(shí)內(nèi)提供定制化解決方案,認(rèn)證周期為國際巨頭的1/5。

2. 國內(nèi)競爭
國內(nèi)光刻膠市場(chǎng)仍由日本企業(yè)壟斷(全球市占率超60%),但吉田在納米壓印、LCD光刻膠等領(lǐng)域具備替代進(jìn)口的潛力。與南大光電、晶瑞電材等企業(yè)相比,吉田在細(xì)分市場(chǎng)的技術(shù)積累更深厚,但ArF、EUV光刻膠仍需突破。

風(fēng)險(xiǎn)與挑戰(zhàn)

 技術(shù)瓶頸:ArF、EUV光刻膠仍依賴進(jìn)口,研發(fā)投入不足國際巨頭的1/10。

 客戶認(rèn)證周期:半導(dǎo)體光刻膠需2-3年驗(yàn)證,吉田尚未進(jìn)入主流晶圓廠供應(yīng)鏈。

 供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn):部分樹脂(如ArF用含氟樹脂)依賴日本住友電木。

 行業(yè)競爭加劇:國內(nèi)企業(yè)如南大光電、晶瑞電材加速技術(shù)突破,可能擠壓吉田的市場(chǎng)份額。
技術(shù)突破加速國產(chǎn)替代,國產(chǎn)化布局贏得市場(chǎng)。

廣州激光光刻膠國產(chǎn)廠商,光刻膠

憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對(duì)特殊場(chǎng)景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時(shí),感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,兼具耐潮性與易操作性,廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。

公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,并與多家跨國企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作關(guān)系。通過在重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處,提供快速響應(yīng)的技術(shù)支持與售后服務(wù)。依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)資源,公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短交付周期,為客戶提供高效解決方案。

未來,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新,拓展產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域,以可靠的產(chǎn)品與專業(yè)的服務(wù),持續(xù)鞏固其在半導(dǎo)體材料行業(yè)的重要地位。

半導(dǎo)體光刻膠:技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑。廣州激光光刻膠國產(chǎn)廠商

負(fù)性光刻膠的工藝和應(yīng)用場(chǎng)景。廣州激光光刻膠國產(chǎn)廠商

 半導(dǎo)體集成電路

應(yīng)用場(chǎng)景:

晶圓制造:正性膠為主(如ArF/EUV膠),實(shí)現(xiàn)20nm以下線寬,用于晶體管柵極、接觸孔等精細(xì)結(jié)構(gòu);

封裝工藝:負(fù)性膠用于凸點(diǎn)(Bump)制造,厚膠(5-50μm)耐電鍍?nèi)芤焊g。

關(guān)鍵要求:高分辨率、低缺陷率、耐極端工藝(如150℃以上高溫、等離子體轟擊)。

 印刷電路板(PCB)

應(yīng)用場(chǎng)景:

線路成像:負(fù)性膠(如環(huán)化橡膠膠)用于雙面板/多層板外層線路,線寬≥50μm,耐堿性蝕刻液(如氯化銅);

阻焊層:厚負(fù)性膠(50-100μm)覆蓋非焊盤區(qū)域,耐260℃焊接溫度和助焊劑腐蝕;

撓性PCB(FPC):正性膠用于精細(xì)線路(線寬≤20μm),需耐彎曲應(yīng)力。

優(yōu)勢(shì):工藝簡單、成本低,適合大面積基板(如1.2m×1.0m的PCB基板)。

 平板顯示

應(yīng)用場(chǎng)景:

彩色濾光片:正性膠制作黑矩陣(BM)和RGB色阻間隔層,耐UV固化和濕法蝕刻(如HF溶液);

OLED像素定義:負(fù)性膠形成像素開口(孔徑5-50μm),耐有機(jī)溶劑(如OLED蒸鍍前的清洗液);

觸控面板:正性膠制作透明電極(如ITO線路),線寬≤10μm,需透光率>90%。

關(guān)鍵參數(shù):高透光性、低收縮率(避免圖案變形)。

廣州激光光刻膠國產(chǎn)廠商

 

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