蘇州ITO蝕刻液剝離液價格

來源: 發(fā)布時間:2025-05-02

    本實用新型涉及光刻膠生產(chǎn)設(shè)備,具體是一種光刻膠廢剝離液回收裝置。背景技術(shù):光刻膠是微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一,其是由溶劑、感光樹脂、光引發(fā)劑和添加劑四種成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,進行光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等過程,將所需要的微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至待加工的襯底上,然后進行蝕刻等工藝加工,終得到所需圖像。其中,溶劑使光刻膠具有流動性,易揮發(fā),對于光刻膠的化學(xué)性質(zhì)幾乎沒有影響。感光樹脂是惰性的聚合物,用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑,給予光刻膠其機械和化學(xué)性質(zhì)。光引發(fā)劑是光刻膠中的光敏成分,對光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。添加劑是控制光刻膠材料特殊方面的化學(xué)物質(zhì),用來控制和改變光刻膠材料的特定化學(xué)性質(zhì)或響應(yīng)特性。在光刻工藝中,一般步驟為勻膠—干燥—前烘--曝光—顯影—后烘—蝕刻—剝離。在光刻膠剝離工序中會產(chǎn)生剝離廢液,光刻膠價格昂貴,如不對廢液中的光刻膠成分回收利用,會造成較大的資源浪費,因此企業(yè)通常將剝離廢液中的光刻膠樹脂進行有效回收并應(yīng)用于再生產(chǎn)中。剝離液應(yīng)用于什么樣的場合?蘇州ITO蝕刻液剝離液價格

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   砷化鎵也有容易被腐蝕的特點,比如堿性的氨水、酸性的鹽酸、硫酸、硝酸等。去膠,也成為光刻膠的剝離。即完成光刻鍍膜等處理之后,需要去除光刻膠之后進行下一步。有時直接采用+異丙醇的方式就可以去除。但是對于等離子體處理過的光刻膠,一般就比較難去除干凈。有的人把加熱到60℃,雖然去膠效果快了一些,但是沸點是60℃,揮發(fā)的特別快,而且**蒸汽也有易燃的風(fēng)險,因此找一款去膠效果好的光刻膠剝離液十分有必要。介紹常見的一款剝離液,該剝離液去膠效果好,但是對砷化鎵有輕微腐蝕,不易長時間浸泡。工藝參數(shù)因產(chǎn)品和光刻膠的種類而不同,但基本上都要加熱。江蘇銀蝕刻液剝離液商家天馬微電子用的哪家的剝離液?

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本發(fā)明涉及化學(xué)制劑技術(shù)領(lǐng)域:,特別涉及一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液。背景技術(shù)::隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)以及立體封裝技術(shù)的不斷發(fā)展,電子器件和電子產(chǎn)品對多功能化和微型化的要求越來越高。在這種小型化趨勢的推動下,要求芯片的封裝尺寸不斷減小。3d疊層粉妝技術(shù)的封裝體積小,立體空間大,引線距離短,信號傳輸快,所以能夠更好地實現(xiàn)封裝的微型化。晶圓疊層是3d疊層封裝的一種形式。疊層晶圓在制造的過程中會對**外層的晶圓表面進行顯影蝕刻,當(dāng)中會用到光刻膠剝離液。

    光刻膠殘留大,殘留分布不均勻,并且產(chǎn)生邊緣聚集殘留。為了能夠進一步地表示配方一和配方二之間的光刻膠殘留量對比,圖2中將多張單張檢測圖進行疊加,可以更加清楚地看出兩者之間的區(qū)別,能夠明顯地看出使用配方一的剝離液,高世代面板邊緣光刻膠殘留量大。下面列舉更多剝離液組分實施例。表三:不同組分的剝離液表四:測試剝離性能時間30s50s70s90s1okokokok2okokokok3okokokok4okokokok5okokokok6okokokok7okokokok8okokokok9okokokok表三為9組不同組分的所制成的剝離液,9組不同組分的剝離液都進行剝離性能測試,在50℃下分別放入切好的玻璃,進行剝離性能測試,測試結(jié)果如表四所示,具有良好的剝離效果。通過上述,本實施方式中的剝離液采用酰胺、醇醚、環(huán)胺與鏈胺、緩蝕劑、潤濕劑制得,有效地提高了光刻膠的剝離效果,減少了光刻膠的殘留。對所公開的實施例的上述說明,使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的,本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下,在其它實施例中實現(xiàn)。因此,本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實施例。天馬微電子用哪家剝離液更多?

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    每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通,所述公共子管道501與所述下一級腔室102連通。其中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的,閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上,在此不做贅述。在一些實施例中,請參閱圖4,圖4為本申請實施例提供的剝離液機臺100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個第三子管道503,每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301,且每一所述第三子管道503與所述下一級腔室連通102。其中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第三子管道503上。本申請實施例提供的剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。通過閥門開關(guān)控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關(guān)將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進程,提高生產(chǎn)效率。 剝離液的類別一般有哪些。合肥配方剝離液報價

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本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題,而避免其使用。近年來,為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點,還報道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻1),由于剝離時的抗蝕劑沒有微細地粉碎,因此存在近年的微細的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點?,F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2002-323776號公報技術(shù)實現(xiàn)要素:發(fā)明要解決的問題因此,本發(fā)明的課題在于,提供容易除去微細的布線間的抗蝕劑的技術(shù)。用于解決問題的手段本發(fā)明人等為了解決上述課題而深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),含有鉀鹽和溶纖劑的溶液與專利文獻1那樣的含有氫氧化鈉和溶纖劑的溶液相比,即使是非常微細的布線間的抗蝕劑也能細小地粉碎,從而完成本發(fā)明。即,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液,其特征在于,含有鉀鹽和溶纖劑。另外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的除去方法,其特征在于,用上述抗蝕劑的剝離液處理施加有抗蝕劑的基材。蘇州ITO蝕刻液剝離液價格