真空鍍膜的膜厚均勻性如何控制？

深圳市聯(lián)合多層線路板有限公司2025-07-10

真空鍍膜膜厚均勻性控制：旋轉(zhuǎn)工件架（轉(zhuǎn)速 5-10rpm）；調(diào)整蒸發(fā)源與工件距離（150-300mm）；使用擋板遮擋邊緣區(qū)域；優(yōu)化蒸發(fā)速率（0.1-1nm/s）。聯(lián)合多層膜厚偏差需≤±5%，通過晶振膜厚儀實(shí)時(shí)監(jiān)測，每批次抽測 3 點(diǎn)（臺階儀測量），超過偏差需調(diào)整擋板角度或蒸發(fā)功率。

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