晶圓甩干機的結(jié)構(gòu)組成:
旋轉(zhuǎn)機構(gòu):包括電機、轉(zhuǎn)軸、轉(zhuǎn)子等部件,電機提供動力,通過轉(zhuǎn)軸帶動轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)子用于固定和承載晶圓,確保晶圓在旋轉(zhuǎn)過程中保持穩(wěn)定。
腔室:是晶圓甩干機的工作空間,通常由不銹鋼或其他耐腐蝕、耐磨損的材料制成,腔室的密封性良好,能夠防止液體和雜質(zhì)進入,同時也能保證內(nèi)部氣流的穩(wěn)定。
噴淋系統(tǒng):在漂洗過程中,噴淋系統(tǒng)將去離子水或其他清洗液均勻地噴灑在晶圓表面,以沖洗掉晶圓上的雜質(zhì)和殘留化學物質(zhì)。
氮氣供應系統(tǒng):包括氮氣瓶、減壓閥、流量計、加熱器等部件,用于向腔室內(nèi)提供加熱的氮氣,以輔助晶圓干燥。
控制系統(tǒng):一般采用可編程邏輯控制器(PLC)或觸摸屏控制系統(tǒng),可實現(xiàn)對設備的參數(shù)設置、運行監(jiān)控、故障診斷等功能,操作人員可以通過控制系統(tǒng)設置沖洗時間、干燥時間、旋轉(zhuǎn)速度、氮氣流量和溫度等參數(shù)。 雙層減震系統(tǒng)的雙腔甩干機有效降低高頻振動,保護地板。河北芯片甩干機
半導體制造工藝不斷發(fā)展,晶圓尺寸也在逐步增大,從早期的較小尺寸(如 100mm、150mm)發(fā)展到如今的 300mm 甚至更大,同時不同的芯片制造工藝對晶圓甩干機的具體要求也存在差異,如不同的清洗液、刻蝕液成分和工藝條件等。因此,出色的立式晶圓甩干機需要具備良好的兼容性,能夠適應不同尺寸的晶圓,并且可以針對不同的工藝環(huán)節(jié)進行靈活的參數(shù)調(diào)整。例如,在控制系統(tǒng)中預設多種工藝模式,操作人員只需根據(jù)晶圓的類型和工藝要求選擇相應的模式,甩干機即可自動調(diào)整到合適的運行參數(shù)。此外,甩干機的機械結(jié)構(gòu)設計也應便于進行調(diào)整和改裝,以適應未來可能出現(xiàn)的新晶圓尺寸和工藝變化。安徽硅片甩干機設備無論是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)還是芯片制造,晶圓甩干機都發(fā)揮著重要作用。
半導體制造工藝復雜多樣,對設備的功能要求也越來越高,無錫凡華半導體生產(chǎn)的晶圓甩干機憑借其多功能集成的特點,滿足您的多樣需求。它不僅具備高效的甩干功能,還可根據(jù)客戶需求,集成清洗、烘干、檢測等多種功能,實現(xiàn)一站式加工。多種甩干模式可供選擇,適用于不同材質(zhì)、尺寸的晶圓。設備還可與自動化生產(chǎn)線無縫對接,實現(xiàn)全自動化生產(chǎn),提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。選擇 無錫凡華半導體生產(chǎn)的晶圓甩干機,讓您的生產(chǎn)更加便捷、高效。
晶圓甩干機是助力半導體制造的關鍵干燥設備。它基于離心力原理工作,將晶圓放置在甩干機的旋轉(zhuǎn)平臺上,高速旋轉(zhuǎn)使晶圓表面液體在離心力作用下被甩出。甩干機的結(jié)構(gòu)設計注重穩(wěn)定性和可靠性,旋轉(zhuǎn)平臺采用you zhi 材料,具備良好的平整度和同心度,保證晶圓在旋轉(zhuǎn)過程中平穩(wěn)。驅(qū)動電機動力強勁且調(diào)速精確,能滿足不同工藝對轉(zhuǎn)速的需求。控制系統(tǒng)智能化,可實現(xiàn)自動化操作,方便操作人員設置甩干參數(shù)。在半導體制造過程中,清洗后的晶圓經(jīng)甩干機處理,去除殘留液體,防止液體殘留對后續(xù)光刻、蝕刻等工藝造成負面影響,如導致蝕刻過度,為半導體制造提供高質(zhì)量的干燥晶圓。實驗室場景:生物樣本、化學試劑脫水,滿足科研實驗的高精度需求。
在半導體制造領域,晶圓甩干機是確保晶圓干燥的關鍵裝備。它利用離心力原理,通過電機帶動晶圓高速旋轉(zhuǎn),使表面液體在離心力作用下從晶圓表面脫離。甩干機的旋轉(zhuǎn)部件設計精良,采用特殊材料提高其耐磨性和穩(wěn)定性。驅(qū)動電機具備強大的動力輸出和精確的調(diào)速功能,以滿足不同工藝對甩干速度的需求。控制系統(tǒng)智能化,可實現(xiàn)對甩干過程的quan mian 監(jiān)控和參數(shù)調(diào)整。在實際生產(chǎn)中,清洗后的晶圓經(jīng)甩干機處理,去除殘留液體,防止液體殘留對后續(xù)光刻、蝕刻等工藝造成不良影響,如導致蝕刻不均勻,確保晶圓干燥,為芯片制造提供良好條件。雙腔甩干機兼容不同電壓,適應國內(nèi)外多種電力環(huán)境。安徽硅片甩干機設備
甩干機憑借強大的離心力,讓衣物里的水分無處遁形,即使厚重的棉衣,也能快速去除大量水分。河北芯片甩干機
甩干機的工作流程通常包括以下幾個步驟:晶圓放置:將清洗后的晶圓放置在旋轉(zhuǎn)盤上,并確保晶圓與旋轉(zhuǎn)盤之間的接觸良好。啟動旋轉(zhuǎn):通過控制系統(tǒng)啟動旋轉(zhuǎn)軸,使旋轉(zhuǎn)盤和晶圓開始高速旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)速度通常根據(jù)晶圓的尺寸、形狀和干燥要求等因素進行調(diào)整。甩干過程:在旋轉(zhuǎn)過程中,晶圓表面的水分和化學溶液等會受到離心力的作用而被甩離晶圓表面。同時,排水系統(tǒng)會將被甩離的水分和化學溶液等迅速排出設備外部。停止旋轉(zhuǎn):當達到預設的旋轉(zhuǎn)時間或干燥效果時,通過控制系統(tǒng)停止旋轉(zhuǎn)軸,使旋轉(zhuǎn)盤和晶圓停止旋轉(zhuǎn)。取出晶圓:在旋轉(zhuǎn)停止后,將晶圓從旋轉(zhuǎn)盤上取出,并進行后續(xù)的工藝處理河北芯片甩干機