近紅外光斑分析儀發(fā)展

來源: 發(fā)布時間:2025-04-24

維度光電光束質(zhì)量測量解決方案基于兩大技術(shù)平臺: 掃描狹縫式系統(tǒng):采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu),通過 ±90° 旋轉(zhuǎn)實現(xiàn) XY 軸同步掃描,結(jié)合刀口 / 狹縫雙模式切換,突破亞微米級光斑檢測極限。光學系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測器,配合高斯擬合算法,實現(xiàn) 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復性。 相機式成像系統(tǒng):搭載背照式 CMOS 傳感器(量子效率 95%@500-1000nm),結(jié)合非球面透鏡組消除畸變,支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術(shù),捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過二階矩法計算 M2 因子,測量精度達 ±0.3%。 創(chuàng)新突破: 狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴展技術(shù)支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常(率 97.2%)光斑分析儀應該怎么選?近紅外光斑分析儀發(fā)展

光斑分析儀

光斑分析儀通過檢測光斑形態(tài)、尺寸及能量分布評估光束質(zhì)量,由光學傳感器與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)構(gòu)成。Dimension-Labs 推出兩大系列產(chǎn)品:掃描狹縫式覆蓋 200-2600nm 寬光譜,支持 2.5μm 至 10mm 光斑測量,可測千萬級功率;相機式則通過高靈敏度傳感器實現(xiàn)實時成像。全系產(chǎn)品集成 M2 因子測試模塊與分析軟件,提供光斑橢圓率、發(fā)散角等 20+ISO 11146 標準參數(shù),覆蓋光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。光通信光斑分析儀軟件如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質(zhì)量?

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Dimension-Labs維度光電重磅推出Beamhere光斑分析儀系列產(chǎn)品,配合通用軟件實現(xiàn)完整的光束質(zhì)量分析功能。 光斑能量分布與光東發(fā)散角、M2因子是激光光東質(zhì)量檢測中的組成部分,高效的測量與分析是充分利用激光的前提。Beamhere系列產(chǎn)品功能完善,能夠?qū)馐?、聚焦光斑與光束準直等場景進行檢驗評估,并提供符ISO11146標準所規(guī)定的光斑參數(shù),如光東寬度、峰值中心與橢圓率等。系列產(chǎn)品均可選配M2因子測試模塊,實現(xiàn)光東傳播方向上的束腰位置、光東發(fā)散角與M2因子的測量。BeamHere把對于激光光束的評價進行量化,并由軟件一鍵輸出測試報告,且高效的完成光束分析。

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價比解決方案: 掃描狹縫式:國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換,覆蓋 190-2700nm 光譜,可測 2.5μm-10mm 光束,0.1μm 分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機制支持 10W 級高功率直接測量,無需外置衰減片。 相機式:400-1700nm 寬譜響應,支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設計擴展功率量程,可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊:通過 ISO 11146 標準算法,測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù),適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,支持一鍵生成標準化報告,滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設計實現(xiàn)高精度檢測,助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。光斑分析儀保修期多長?維度光電整機 3 年質(zhì)保,部件 5 年延保。

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維度光電致力于激光領域的應用,將展示一系列針對千瓦級高功率、微米級小光斑以及脈沖激光的光束質(zhì)量測量解決方案。在此次展示中,我們將拆解光斑分析儀的全系列產(chǎn)品,深度剖析其技術(shù),從光學原理到智能算法,為您層層揭秘。通過實際操作演示,直觀展現(xiàn)產(chǎn)品在復雜工況下的良好的穩(wěn)定性和超高測量精度。 我們將詳細介紹光斑分析儀的工作原理,包括其光學系統(tǒng)的設計、信號處理技術(shù)以及數(shù)據(jù)處理算法等環(huán)節(jié)。同時,我們還將展示光斑分析儀在不同應用場景中的表現(xiàn),例如在工業(yè)生產(chǎn)、科研探索以及質(zhì)量檢測等方面的實際應用案例。通過這些案例,您可以了解到光斑分析儀如何在各種復雜環(huán)境下保持高穩(wěn)定性和高測量精度。 此外,針對工業(yè)生產(chǎn)和科研探索的不同需求,我們還將分享一系列精心打造的一站式完備方案。這些方案不僅包括光斑分析儀,還涵蓋了其他相關設備和軟件,旨在為您提供專業(yè)的技術(shù)支持和服務。我們的目標是幫助您突破技術(shù)瓶頸,在激光領域取得新的突破,從而推動整個行業(yè)的發(fā)展。光斑分析儀廠家哪家好?推薦維度光電!多光斑光斑分析儀制造商

激光光斑的光斑尺寸、形狀、強度分布、M2因子、空間位置與穩(wěn)定性測試。近紅外光斑分析儀發(fā)展

Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構(gòu)光斑分析標準:狹縫 - 刀口雙模式切換技術(shù),突破傳統(tǒng)設備量程限制,切換時間小于 50ms;高動態(tài)范圍傳感器,實現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應,量子效率達 85%; AI 驅(qū)動的光斑模式識別算法,率達 99.7%,可區(qū)分高斯、平頂、環(huán)形等 12 種光斑類型。全系產(chǎn)品支持 M2 因子在線測試,測量重復性達 ±0.5%,結(jié)合工業(yè)級防護設計,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境下穩(wěn)定工作,通過 IP65 防塵防水認證,滿足嚴苛場景需求。產(chǎn)品已通過 CE、FCC、RoHS 三重國際認證。近紅外光斑分析儀發(fā)展

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