全品類覆蓋與定制化能力 吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠等全品類，適用于半導(dǎo)體、顯示面板、MEMS等多個領(lǐng)域。例如，其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求，支持客戶...

市場拓展 ? 短期目標：2025年前實現(xiàn)LCD光刻膠國內(nèi)市占率10%，半導(dǎo)體負性膠進入中芯國際、華虹供應(yīng)鏈，納米壓印膠完成臺積電驗證。 ? 長期愿景：成為全球的半導(dǎo)體材料方案提供商，2030年芯片光刻膠營收占比超40...

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域，通過差異化技術(shù)（如納米壓印、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方），滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域（如第三代半導(dǎo)體、Mini LED）的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝，還通過材料...

人才與生態(tài)：跨學(xué)科團隊的“青黃不接” 前段人才的結(jié)構(gòu)性短缺 光刻膠研發(fā)需材料化學(xué)、半導(dǎo)體工藝、分析檢測等多領(lǐng)域。國內(nèi)高校相關(guān)專業(yè)畢業(yè)生30%進入光刻膠行業(yè)，且缺乏具有10年以上經(jīng)驗的工程師。日本企業(yè)通過“技術(shù)導(dǎo)師制”培養(yǎng)人才，...

半導(dǎo)體集成電路 ? 應(yīng)用場景： ? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠），實現(xiàn)20nm以下線寬，用于晶體管柵極、接觸孔等精細結(jié)構(gòu)； ? 封裝工藝：負性膠用于凸點（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐...

人才與生態(tài)：跨學(xué)科團隊的“青黃不接” 前段人才的結(jié)構(gòu)性短缺 光刻膠研發(fā)需材料化學(xué)、半導(dǎo)體工藝、分析檢測等多領(lǐng)域。國內(nèi)高校相關(guān)專業(yè)畢業(yè)生30%進入光刻膠行業(yè)，且缺乏具有10年以上經(jīng)驗的工程師。日本企業(yè)通過“技術(shù)導(dǎo)師制”培養(yǎng)人才，...

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為，吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠，助力電子產(chǎn)業(yè)低碳轉(zhuǎn)型。面對全球環(huán)保趨勢，吉田半導(dǎo)體推出無鹵無鉛錫膏與焊片，通過歐盟 RoHS 認證，焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方（<50g/L），符合歐盟 REAC...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊資本 2000 萬元，擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗，產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等，服務(wù)全球市場并與多家...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域。 厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年，適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景，如一些特...

關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域 半導(dǎo)體制造： ? 在晶圓表面涂覆光刻膠，通過掩膜曝光、顯影，刻蝕出晶體管、電路等納米級結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。 印刷電路板（PCB）： ? 保護電路圖形或作為...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以光刻膠為中心，逐步拓展至半導(dǎo)體全材料領(lǐng)域，形成了 “技術(shù)驅(qū)動、全產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋” 的發(fā)展格局。公司產(chǎn)品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠，還延伸至錫膏、焊片、靶材等配套材料，為客戶提供一站式采購服務(wù)。 市場與榮譽： ...

正性光刻膠 半導(dǎo)體分立器件制造：對于二極管、三極管等半導(dǎo)體分立器件，正性光刻膠可實現(xiàn)精細的圖形化加工，滿足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時，正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對比度，能精確刻畫器件的結(jié)構(gòu)，提高器件性能。 ...

光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域 光刻膠是微電子制造的主要材料，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域： 半導(dǎo)體制造 ? 功能：在晶圓表面形成微細電路圖案，作為蝕刻或離子注入的掩膜。 ? 分類： ...

吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認證，PCB 電路板制造 憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。 吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率達 1.5μm，抗深蝕刻速率...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司，坐落于松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的一顆璀璨明珠。公司注冊資本 2000 萬元，專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，是國家高新技術(shù)企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。 強大的產(chǎn)品陣容：吉田半導(dǎo)體產(chǎn)...

國際標準與客戶認證 公司通過ISO9001、ISO14001等認證，并嚴格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理，生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達Class 10級。其光刻膠產(chǎn)品已通過京東方、TCL華星的供應(yīng)商認證，在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%，成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR、德國默克...

先進制程瓶頸突破 KrF/ArF光刻膠的量產(chǎn)能力提升直接推動7nm及以下制程的國產(chǎn)化進程。例如，恒坤新材的KrF光刻膠已批量供應(yīng)12英寸產(chǎn)線，覆蓋7nm工藝，其工藝寬容度較日本同類型產(chǎn)品提升30%。這使得國內(nèi)晶圓廠（如中芯國際）在DUV多重曝光技術(shù)...

吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘，國產(chǎn)替代再迎新進展 自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗證，吉田半導(dǎo)體填補國內(nèi)光刻膠空白。 吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達 90nm，適用于 14nm 及以上制程，已通過中芯國...

厚板光刻膠 電路板制造：在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時，厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩(wěn)定性，比如汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板，能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）...

憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式，吉田半導(dǎo)體的材料遠銷全球，并與多家跨國企業(yè)建立長期合作。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應(yīng)用于光伏、儲能等清潔能源領(lǐng)域，助力客戶實現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好。公司通過導(dǎo)入國際標準認證（如 ISO14001 環(huán)境管理體系），進一步強化了在...

納米壓印光刻膠 微納光學(xué)器件制造：制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時，納米壓印光刻膠可實現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制。通過納米壓印技術(shù)，將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過后續(xù)處理，可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件，應(yīng)用于光通信...

主要優(yōu)勢：細分領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同 技術(shù)積累與自主化能力 公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗，實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，分辨率達3μm，適用于MEMS傳...

吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認證，PCB 電路板制造 憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。 吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率達 1.5μm，抗深蝕刻速率...

國際廠商策略調(diào)整 應(yīng)用材料公司獲曝光后處理，可將光刻膠工藝效率提升40%。杜邦因反壟斷調(diào)查在中國市場面臨壓力，但其新一代乾膜式感光型介電質(zhì)材料（CYCLOTENE DF6000 PID）仍在推進，試圖通過差異化技術(shù)維持優(yōu)勢。日本企業(yè)則通過技術(shù)授權(quán)（...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域。 LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝，能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和...

光刻膠（Photoresist）是一種對光敏感的高分子材料，主要用于光刻工藝中，通過光化學(xué)反應(yīng)實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，是半導(dǎo)體、集成電路（IC）、印刷電路板（PCB）、液晶顯示（LCD）等制造領(lǐng)域的材料之一。 光刻膠特性與組成 ...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量優(yōu)勢，在半導(dǎo)體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品，其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強酸強堿環(huán)境，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造；LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以光刻膠為中心，逐步拓展至半導(dǎo)體全材料領(lǐng)域，形成了 “技術(shù)驅(qū)動、全產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋” 的發(fā)展格局。公司產(chǎn)品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠，還延伸至錫膏、焊片、靶材等配套材料，為客戶提供一站式采購服務(wù)。 市場與榮譽： ...

? 化學(xué)反應(yīng)： ? 正性膠：曝光后光敏劑（如重氮醌DQN）分解，生成羧酸，在堿性顯影液中溶解； ? 負性膠：曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。 5. 顯影（Development） ...

吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟，構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈，發(fā)揮企業(yè)作用，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源，推動?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新。 作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機制造商、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過技術(shù)輸出與資源共享，幫助本地企業(yè)提升工藝水平，促...