鍍膜機(jī)的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì): 高精度與大尺寸滿足大尺寸面板(如8K電視玻璃)和微納結(jié)構(gòu)的高精度鍍膜需求。環(huán)保與節(jié)能開發(fā)低溫CVD、原子層沉積(ALD)等低能耗技術(shù),減少有害氣體排放。多功能集成結(jié)合光刻、刻蝕等工藝,實(shí)現(xiàn)復(fù)雜功能薄膜的一體化制備。智能化與自動(dòng)...
光學(xué)領(lǐng)域: 鏡頭鍍膜:在相機(jī)、攝像機(jī)、望遠(yuǎn)鏡等光學(xué)鏡頭上鍍膜,可減少光線反射,增加透光率,提高成像清晰度和色彩還原度。例如,多層增透膜能使鏡頭在不同波長(zhǎng)的光線下都有較高的透光率,減少鬼影和眩光。光學(xué)濾光片:通過(guò)鍍膜技術(shù)制備各種光學(xué)濾光片,如紅外濾光片...
濺射鍍膜: 原理:濺射鍍膜是在真空環(huán)境下,利用荷能粒子(如氬離子)轟擊靶材(鍍膜材料)表面。當(dāng)氬離子高速撞擊靶材時(shí),靶材表面的原子會(huì)被濺射出來(lái)。這些被濺射出來(lái)的原子具有一定的動(dòng)能,它們會(huì)在真空室中飛行,并沉積在基底表面形成薄膜。與真空蒸發(fā)鍍膜不同的是...
鍍膜機(jī)的組件: 真空系統(tǒng)提供高真空環(huán)境(通常為10?3至10?? Pa),防止薄膜材料氧化或污染。鍍膜源蒸發(fā)源(電阻加熱、電子束加熱)、濺射靶材、化學(xué)前驅(qū)體供應(yīng)裝置等?;膴A具固定和旋轉(zhuǎn)基材,確保薄膜均勻性??刂葡到y(tǒng)監(jiān)控和調(diào)節(jié)真空度、溫度、沉積速率等...
產(chǎn)業(yè)化與多元化發(fā)展(20 世紀(jì) 90 年代 - 21 世紀(jì)初)1990 年代中期至 2000 年代初,真空鍍膜機(jī)進(jìn)入自主研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化階段。以深圳先進(jìn)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園區(qū)的企業(yè)為,一批磁控濺射真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)商涌現(xiàn),不僅具備自主研發(fā)和生產(chǎn)能力,還將產(chǎn)品推向市場(chǎng),滿足...
裝飾領(lǐng)域: 珠寶首飾鍍膜:在珠寶、首飾表面鍍上一層金屬或合金薄膜,如鍍銀、鍍金、鍍銠等,可以增加其光澤度和美觀度,同時(shí)提高耐磨性和耐腐蝕性。此外,還可以通過(guò)鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)各種特殊的顏色和效果,滿足不同消費(fèi)者的個(gè)性化需求。家居裝飾鍍膜:在家居用品如燈具、...
光學(xué)鍍膜機(jī):用于制備增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等,廣泛應(yīng)用于光學(xué)鏡頭、眼鏡、激光器等領(lǐng)域。 電子鍍膜機(jī):用于半導(dǎo)體、集成電路的金屬化層、絕緣層沉積,如薄膜電阻器、薄膜電容器等。 裝飾鍍膜機(jī):用于手表、首飾、手機(jī)外殼等裝飾涂層,可實(shí)現(xiàn)仿金...
離子鍍膜機(jī):利用離子轟擊基板表面以改善涂層附著性和膜厚均勻性,適用于制備金屬、陶瓷和聚合物等材料的薄膜。蒸發(fā)鍍膜機(jī):通過(guò)加熱材料讓其蒸發(fā)并沉積在基板表面形成薄膜,包括電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備等。蒸發(fā)鍍膜機(jī)操作簡(jiǎn)單、制備工藝成熟,廣泛應(yīng)用于金...
電子領(lǐng)域: 半導(dǎo)體器件制造在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中,鍍膜機(jī)用于沉積各種薄膜。例如,沉積金屬薄膜作為電極,如鋁、銅等金屬薄膜可以通過(guò)氣相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)的方式在硅片等半導(dǎo)體襯底上形成。還會(huì)沉積絕緣薄膜,如二氧化硅薄膜,用于隔離不同的...
按真空爐功能分類: 濺射鍍膜機(jī):利用電子或高能激光轟擊靶材,使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并沉積在基片表面形成薄膜。包括磁控濺射鍍膜機(jī)、多弧離子鍍膜機(jī)等。 磁控濺射鍍膜機(jī):廣泛應(yīng)用于電子、光電、半導(dǎo)體和納米科技等領(lǐng)域,具有薄膜制備速度...
二次電子的能量利用:濺射過(guò)程中產(chǎn)生的二次電子在磁場(chǎng)作用下被束縛在靶材表面附近,進(jìn)一步參與氣體電離,形成自持的放電過(guò)程。由于二次電子能量較低,終沉積在基片上的能量很小,基片溫升較低。 磁場(chǎng)分布對(duì)濺射的影響: 平衡磁控濺射:磁場(chǎng)在靶材表面均勻分布,...
按真空爐功能分類: 濺射鍍膜機(jī):利用電子或高能激光轟擊靶材,使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并沉積在基片表面形成薄膜。包括磁控濺射鍍膜機(jī)、多弧離子鍍膜機(jī)等。 磁控濺射鍍膜機(jī):廣泛應(yīng)用于電子、光電、半導(dǎo)體和納米科技等領(lǐng)域,具有薄膜制備速度...
鍍膜機(jī)的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì): 高精度與大尺寸滿足大尺寸面板(如8K電視玻璃)和微納結(jié)構(gòu)的高精度鍍膜需求。環(huán)保與節(jié)能開發(fā)低溫CVD、原子層沉積(ALD)等低能耗技術(shù),減少有害氣體排放。多功能集成結(jié)合光刻、刻蝕等工藝,實(shí)現(xiàn)復(fù)雜功能薄膜的一體化制備。智能化與自動(dòng)...
蒸發(fā)鍍膜機(jī): 電阻加熱蒸發(fā)鍍膜機(jī):通過(guò)電阻加熱使靶材蒸發(fā),適用于低熔點(diǎn)材料(如鋁、銀)。 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī):利用電子束轟擊高熔點(diǎn)靶材(如鎢、氧化物),蒸發(fā)溫度可達(dá)3000℃以上,適用于高純度薄膜制備。濺射鍍膜機(jī)直流磁控濺射鍍膜機(jī):適用于金屬和合...
光學(xué)鍍膜機(jī):用于制備增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等,廣泛應(yīng)用于光學(xué)鏡頭、眼鏡、激光器等領(lǐng)域。 電子鍍膜機(jī):用于半導(dǎo)體、集成電路的金屬化層、絕緣層沉積,如薄膜電阻器、薄膜電容器等。 裝飾鍍膜機(jī):用于手表、首飾、手機(jī)外殼等裝飾涂層,可實(shí)現(xiàn)仿金...
真空蒸發(fā)鍍膜原理:首先將鍍膜材料放置在加熱源中,然后把鍍膜室抽成真空狀態(tài)。當(dāng)加熱源的溫度升高時(shí),鍍膜材料會(huì)從固態(tài)逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài),這個(gè)過(guò)程稱為蒸發(fā)。蒸發(fā)后的氣態(tài)原子或分子會(huì)在真空環(huán)境中自由運(yùn)動(dòng),由于沒(méi)有空氣分子的干擾,它們會(huì)以直線的方式向各個(gè)方向擴(kuò)散。當(dāng)這些氣態(tài)...
刀具與模具涂層: 應(yīng)用場(chǎng)景:各類切削刀具(銑刀、鉆頭、車刀)、沖壓模具、注塑模具等。 涂層類型:硬質(zhì)耐磨涂層:TiN(金色,硬度 HV 2000~2500)、TiCN(黑色,HV 3000~3500)、AlTiN(藍(lán)灰色,HV 3500+,耐高...
鍍膜機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)的設(shè)備,其種類多樣,根據(jù)不同的分類標(biāo)準(zhǔn),可以有以下分類: 按行業(yè)分類: 光學(xué)鍍膜機(jī):主要用于光學(xué)設(shè)備、激光設(shè)備和微電子設(shè)備等的光學(xué)薄膜制備,如鏡頭真空鍍膜機(jī)、電子鍍膜機(jī)等。 卷繞鍍膜機(jī):用于包裝、防偽、電容器...
提升材料性能,延長(zhǎng)使用壽命: 耐磨抗腐蝕:刀具鍍膜機(jī)通過(guò)沉積TiN、TiAlN等硬質(zhì)涂層,使刀具硬度提升2-3倍,壽命延長(zhǎng)5倍以上,降低工業(yè)加工成本。 耐高溫防護(hù):航空航天鍍膜機(jī)為發(fā)動(dòng)機(jī)葉片制備熱障涂層(如YSZ),可承受1200℃以上高溫,延...
實(shí)現(xiàn)特殊功能光學(xué)性能調(diào)控:在光學(xué)領(lǐng)域,鍍膜機(jī)可以通過(guò)精確控制薄膜的厚度和折射率等參數(shù),制備出具有特定光學(xué)性能的薄膜,如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些光學(xué)薄膜廣泛應(yīng)用于相機(jī)鏡頭、望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域,能夠提高光學(xué)元件的透光率、反射率等性能,改善成像質(zhì)...
刀具與模具涂層: 應(yīng)用場(chǎng)景:各類切削刀具(銑刀、鉆頭、車刀)、沖壓模具、注塑模具等。 涂層類型:硬質(zhì)耐磨涂層:TiN(金色,硬度 HV 2000~2500)、TiCN(黑色,HV 3000~3500)、AlTiN(藍(lán)灰色,HV 3500+,耐高...
裝飾領(lǐng)域: 珠寶首飾鍍膜:在珠寶、首飾表面鍍上一層金屬或合金薄膜,如鍍銀、鍍金、鍍銠等,可以增加其光澤度和美觀度,同時(shí)提高耐磨性和耐腐蝕性。此外,還可以通過(guò)鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)各種特殊的顏色和效果,滿足不同消費(fèi)者的個(gè)性化需求。家居裝飾鍍膜:在家居用品如燈具、...
按其他標(biāo)準(zhǔn)分類: MBE分子束外延鍍膜機(jī):是一種用于制備高質(zhì)量薄膜的先進(jìn)設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)和超導(dǎo)等領(lǐng)域。 PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī):利用高能激光束轟擊靶材,使靶材物質(zhì)以離子或原子團(tuán)的形式濺射出來(lái),并沉積在基片上形成薄膜。 此外,...
真空腔室材質(zhì):不銹鋼(耐腐蝕、易清潔),內(nèi)壁拋光以減少薄膜沉積死角。配置: 靶材組件:多個(gè)電弧靶(可旋轉(zhuǎn)或固定),靶材材質(zhì)根據(jù)膜層需求選擇(如鈦、鉻、鋯、不銹鋼等)。 工件架:可旋轉(zhuǎn)或行星運(yùn)動(dòng),確保工件表面均勻受鍍(公轉(zhuǎn) + 自轉(zhuǎn))。 進(jìn)...
蒸發(fā)鍍膜機(jī):蒸發(fā)鍍膜機(jī)運(yùn)用高溫加熱,讓鍍膜材料從固態(tài)直接轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)。加熱方式涵蓋電阻加熱、電子束加熱和高頻感應(yīng)加熱。以電阻加熱為例,當(dāng)電流通過(guò)高電阻材料,電能轉(zhuǎn)化為熱能,使鍍膜材料升溫蒸發(fā)。在真空環(huán)境中,氣態(tài)的鍍膜材料原子或分子做無(wú)規(guī)則熱運(yùn)動(dòng),向四周擴(kuò)散,...
工藝靈活性與定制化能力強(qiáng) 多材料兼容性:支持金屬(鋁、銅)、陶瓷(氮化硅、氧化鋁)、化合物(ITO、ZnO)等多種材料鍍膜,滿足不同行業(yè)需求。 膜層厚度可控:通過(guò)調(diào)節(jié)工藝參數(shù)(如功率、時(shí)間、氣壓),膜層厚度精度可達(dá)±1 nm,適用于精密光學(xué)、半...
其他優(yōu)勢(shì): 適用范圍廣:鍍膜機(jī)可以在各種不同的材料表面進(jìn)行鍍膜,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,幾乎涵蓋了所有常見(jiàn)的材料類型。而且對(duì)于不同形狀、尺寸的工件,無(wú)論是平面、曲面還是復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu),都可以通過(guò)適當(dāng)?shù)腻兡すに囘M(jìn)行處理,具有很強(qiáng)的適應(yīng)性。環(huán)保節(jié)能...
工藝靈活性與定制化能力強(qiáng) 多材料兼容性:支持金屬(鋁、銅)、陶瓷(氮化硅、氧化鋁)、化合物(ITO、ZnO)等多種材料鍍膜,滿足不同行業(yè)需求。 膜層厚度可控:通過(guò)調(diào)節(jié)工藝參數(shù)(如功率、時(shí)間、氣壓),膜層厚度精度可達(dá)±1 nm,適用于精密光學(xué)、半...
真空腔室材質(zhì):不銹鋼(耐腐蝕、易清潔),內(nèi)壁拋光以減少薄膜沉積死角。配置: 靶材組件:多個(gè)電弧靶(可旋轉(zhuǎn)或固定),靶材材質(zhì)根據(jù)膜層需求選擇(如鈦、鉻、鋯、不銹鋼等)。 工件架:可旋轉(zhuǎn)或行星運(yùn)動(dòng),確保工件表面均勻受鍍(公轉(zhuǎn) + 自轉(zhuǎn))。 進(jìn)...
光學(xué)鏡片和鏡頭應(yīng)用:鍍制增透膜、反射膜、濾光膜等功能性薄膜,改善光學(xué)元件的性能。激光器件應(yīng)用:鍍制高反射率的金屬膜或介質(zhì)膜,提高激光的反射效率和輸出功率。太陽(yáng)能電池應(yīng)用:制備減反射膜和金屬電極薄膜,提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。建筑裝飾應(yīng)用:在玻璃幕墻、金屬門...