青浦區(qū)碳化硅介紹

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-05-30

SiC的硬度只次于金剛石,可以作為砂輪等磨具的磨料,因此對(duì)其進(jìn)行機(jī)械加工主要是利用金剛石砂輪磨削、研磨和拋光,其中金剛石砂輪磨削加工的效率較高,是加工SiC的重要手段。但是SiC材料不只具有高硬度的特點(diǎn),高脆性、低斷裂韌性也使得其磨削加工過(guò)程中易引起材料的脆性斷裂從而在材料表面留下表面破碎層,且產(chǎn)生較為嚴(yán)重的表面與亞表層損傷,影響加工精度。因此,深入研究SiC磨削機(jī)理與亞表面損傷對(duì)于提高SiC磨削加工效率和表面質(zhì)量具有重要意義。在任何已能達(dá)到的壓力下,它都不會(huì)熔化,且具有相當(dāng)?shù)偷幕瘜W(xué)活性。青浦區(qū)碳化硅介紹

由于二極管是基于10A額定電流進(jìn)行比較的,考慮不同供應(yīng)商的器件之間有時(shí)不同的額定電流定義是很重要的。為了更加深入地了解器件性能,畫(huà)出電流密度(正向電流除以芯片面積)與正向壓降之間的關(guān)系是有用的,它考慮到了芯片的面積。顯示了等效電流密度,傳統(tǒng)硅二極管和SiC肖特基二極管具有非常相似的正向壓降,而快速硅二極管的Vf仍然是較高的。換句話(huà)說(shuō),當(dāng)使用相同的芯片面積時(shí),硅二極管和SiC二極管具有可比的靜態(tài)損耗。通常SiC芯片尺寸更小,由于額度電流的確考慮到了靜態(tài)和動(dòng)態(tài)損耗,額定電流,所以帶來(lái)較小的總損耗,因此縮小了芯片的尺寸。青浦區(qū)碳化硅介紹碳化硅在C、N、B等非氧化物高技術(shù)耐火原料中,碳化硅為應(yīng)用普遍、經(jīng)濟(jì)的一種。

目前用直拉法,72小時(shí)能生長(zhǎng)出2-3米左右的硅單晶棒,一根單晶棒一次能切下上千片硅片。你知道72小時(shí)能長(zhǎng)多少厚碳化硅單晶體嗎?只有幾厘米都不到?。?!目前較快的碳化硅單晶生長(zhǎng)的方法,生長(zhǎng)速度在0.1mm/h-0.2mm/h左右,因此72小時(shí)也只有7.2mm~14.4mm厚度的晶體。所以大家可以想象,生產(chǎn)出來(lái)的碳化硅單晶片能貴成啥樣了。目前4英寸碳化硅襯底售價(jià)在2000-3000元左右,6英寸襯底更是達(dá)到6000-8000元的水平,外延片至少再X2的價(jià)格以上,而且還有價(jià)無(wú)貨。

碳化硅在半導(dǎo)體芯片中的主要形式為襯底。半導(dǎo)體芯片分為集成電路和分立器件,但不論是集成電路還是分立器件,其基本結(jié)構(gòu)都可劃分為“襯底-外延-器件” 結(jié)構(gòu)。碳化硅在半導(dǎo)體中存在的主要形式是作為襯底材料。碳化硅晶片是碳化硅晶體經(jīng)過(guò)切割、研磨、拋光、清洗等工序加工形成的單晶薄片。碳化硅晶片作為半導(dǎo)體襯底材料,經(jīng)過(guò)外延生長(zhǎng)、器件制造等環(huán)節(jié),可制成碳化硅基功率器件和微波射頻器件,是第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要基礎(chǔ)材料。根據(jù)電阻率不同,碳化硅晶片可分為導(dǎo)電型和半絕緣型。其中,導(dǎo)電型碳化硅晶片主要應(yīng)用于制造耐高溫、耐高壓的功率器件,市場(chǎng)規(guī)模較大;半絕緣型碳化硅襯底主要應(yīng)用于微波射頻器件等領(lǐng)域,隨著 5G 通訊網(wǎng)絡(luò)的加速建設(shè),市場(chǎng)需求提升較為明顯。μ-碳化硅較為穩(wěn)定,且碰撞時(shí)有較為悅耳的聲音,但直至現(xiàn)在,這兩種型態(tài)尚未有商業(yè)上之應(yīng)用。

利用碳化硅具有耐腐蝕、耐高溫、強(qiáng)度大、導(dǎo)熱性能良好、抗沖擊等特性,碳化硅一方面可用于各種冶煉爐襯、高溫爐窯構(gòu)件、碳化硅板、襯板、支撐件、匣缽、碳化硅坩堝等。另一方面可用于有色金屬冶煉工業(yè)的高溫間接加熱材料,如豎罐蒸餾爐、精餾爐塔盤(pán)、鋁電解槽、銅熔化爐內(nèi)襯、鋅粉爐用弧型板、熱電偶保護(hù)管等;用于制作耐磨、耐蝕、耐高溫等高級(jí)碳化硅陶瓷材料;還可以制做火箭噴管、燃?xì)廨啓C(jī)葉片等。此外,碳化硅也是高速公路、航空飛機(jī)跑道太陽(yáng)能熱水器等的理想材料之一。碳化硅除作磨料用外,還有很多其他用途。青浦區(qū)碳化硅介紹

加熱到2000°C左右高溫,經(jīng)過(guò)各種化學(xué)工藝流程后得到碳化硅微粉。青浦區(qū)碳化硅介紹

由于天然含量甚少,碳化硅主要多為人造。常見(jiàn)的方法是將石英砂與焦炭混合,利用其中的二氧化硅和石油焦,加入食鹽和木屑,置入電爐中,加熱到2000°C左右高溫,經(jīng)過(guò)各種化學(xué)工藝流程后得到碳化硅微粉。碳化硅(SiC)因其很大的硬度而成為一種重要的磨料,但其應(yīng)用范圍卻超過(guò)一般的磨料。例如,它所具有的耐高溫性、導(dǎo)熱性而成為隧道窯或梭式窯的主選窯具材料之一,它所具有的導(dǎo)電性使其成為一種重要的電加熱元件等。制備SiC制品首先要制備SiC冶煉塊[或稱(chēng):SiC顆粒料,因含有C且超硬,因此SiC顆粒料曾被稱(chēng)為:金剛砂。青浦區(qū)碳化硅介紹

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