江蘇咨詢高新企業(yè)認(rèn)證怎么樣

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-20

4、空間信息獲取及綜合應(yīng)用集成系統(tǒng)空間數(shù)據(jù)獲取系統(tǒng),包括低空遙感系統(tǒng)、基于導(dǎo)航定位的精密測量與檢測系統(tǒng)、與PDA及移動(dòng)通信部件一體化的數(shù)據(jù)獲取設(shè)備等;導(dǎo)航定位綜合應(yīng)用集成系統(tǒng),包括基于“北斗一號(hào)”衛(wèi)星導(dǎo)航定位應(yīng)用的主動(dòng)/被動(dòng)的導(dǎo)航、定位設(shè)備及公眾服務(wù)系統(tǒng);基于位置服務(wù)(LBS)技術(shù)的應(yīng)用系統(tǒng)平臺(tái);時(shí)空數(shù)據(jù)庫的構(gòu)建及其應(yīng)用技術(shù)等。5、面向行業(yè)及企業(yè)信息化的應(yīng)用系統(tǒng)融合多種通信手段的企業(yè)信息通信集成技術(shù);智能化的知識(shí)管理;工作流、多媒體;基于SOA架構(gòu)建立的企業(yè)信息化集成應(yīng)用。從法律講,在技術(shù)開發(fā)的競爭中,晚于率先注冊專利者的同類成果是不會(huì)受到專利保護(hù)的。江蘇咨詢高新企業(yè)認(rèn)證怎么樣

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1. 一年銷售收入小于5,000萬元(含)的企業(yè),比例不低于5%;2. 一年銷售收入在5,000萬元至2億元(含)的企業(yè),比例不低于4%;3. 一年銷售收入在2億元以上的企業(yè),比例不低于3%。其中,企業(yè)在中國境內(nèi)發(fā)生的研究開發(fā)費(fèi)用總額占全部研究開發(fā)費(fèi)用總額的比例不低于60%;(六)近一年高新技術(shù)產(chǎn)品(服務(wù))收入占企業(yè)同期總收入的比例不低于60%;(七)企業(yè)創(chuàng)新能力評價(jià)應(yīng)達(dá)到相應(yīng)要求;(八)企業(yè)申請認(rèn)定前一年內(nèi)未發(fā)生重大安全、重大質(zhì)量事故或嚴(yán)重環(huán)境違法行為。第十二條 高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定程序如下:吳中區(qū)哪里高新企業(yè)認(rèn)證好處負(fù)責(zé)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定工作的資格的備案管理;

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5、集成電路芯片制造技術(shù)CMOS工藝技術(shù)、CMOS加工技術(shù)、BiCMOS技術(shù)、以及各種與CMOS兼容工藝的SoC產(chǎn)品的工業(yè)化技術(shù);雙極型工藝技術(shù),CMOS加工技術(shù)與BiCMOS加工技術(shù);寬帶隙半導(dǎo)體基集成電路工藝技術(shù);電力電子集成器件工藝技術(shù)。6、集成光電子器件技術(shù)半導(dǎo)體大功率高速激光器;大功率泵浦激光器;高速PIN-FET模塊;陣列探測器;10Gbit/s-40Gbit/s光發(fā)射及接收模塊;用于高傳輸速率多模光纖技術(shù)的光發(fā)射與接收器件;非線性光電器件;平面波導(dǎo)器件(PLC)(包括CWDM復(fù)用/解復(fù)用、OADM分插復(fù)用、光開關(guān)、可調(diào)光衰減器等)。

9、地理信息系統(tǒng)網(wǎng)絡(luò)環(huán)境下多系統(tǒng)運(yùn)行的GIS軟件平臺(tái)構(gòu)建技術(shù);基于3D/4D(即帶有時(shí)間標(biāo)識(shí))技術(shù)的GIS開發(fā)平臺(tái)構(gòu)建技術(shù);組件式和可移動(dòng)應(yīng)用的GIS軟件包技術(shù)等。10、電子商務(wù)軟件基于Web服務(wù)(Web Services)及面向服務(wù)體系架構(gòu)(SOA)的電子商務(wù)應(yīng)用集成環(huán)境及其生成工具軟件或套件的技術(shù);面向電子交易或事務(wù)處理服務(wù)的各類支持平臺(tái)、軟件工具或套件的技術(shù);支持電子商務(wù)協(xié)同應(yīng)用的軟件環(huán)境、平臺(tái)、或工具套件的技術(shù);面向桌面和移動(dòng)終端設(shè)備應(yīng)用的信息搜索與服務(wù)軟件或工具的技術(shù);面向行業(yè)的電子商務(wù)評估軟件或工具的技術(shù);支持新的交易模式的工具軟件和應(yīng)用軟件技術(shù)等。對于發(fā)展中國家的企業(yè)實(shí)施模仿創(chuàng)新,可以獲得較大的優(yōu)勢。

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(二)模式的優(yōu)、缺點(diǎn)模仿創(chuàng)新并非簡單抄襲,而是站在他人肩膀上,投入一定研發(fā)資源,進(jìn)行進(jìn)一步的完善和開發(fā),特別是工藝和市場化研究開發(fā)。這種模式適用于技術(shù)力量尤其是研究與發(fā)展力量不足、資金不足的情況,可在有限資金和技術(shù)力量條件,迅速積累技術(shù)能力、提高研究與發(fā)展水平。另外,企業(yè)模仿過程中選擇的是成功的技術(shù)成果加以引進(jìn)購買、消化吸收與改進(jìn),并將自己的研究開發(fā)活動(dòng)集中于特定的領(lǐng)域、漸進(jìn)性的改進(jìn),有效的回避了高技術(shù)的爭奪,創(chuàng)新的過程針對性很強(qiáng)。經(jīng)認(rèn)定的高新技術(shù)企業(yè),可執(zhí)行15%(認(rèn)定前25%)的優(yōu)惠稅率,稅率降低10個(gè)點(diǎn),稅額減少40%。蘇州網(wǎng)絡(luò)高新企業(yè)認(rèn)證售價(jià)

由于這種創(chuàng)新主體利益的多元化,使合作各方會(huì)為創(chuàng)新后續(xù)風(fēng)險(xiǎn)的承擔(dān)和利益分配而糾紛不止。江蘇咨詢高新企業(yè)認(rèn)證怎么樣

3、知識(shí)和能力的支持是創(chuàng)新成功的內(nèi)在基礎(chǔ)和必要條件。自主開發(fā)技術(shù)的創(chuàng)新模式,主要用于全新創(chuàng)新或重大的突破性技術(shù)創(chuàng)新,它需要有很大研究與發(fā)展的投入,必須有較雄厚的技術(shù)力量,并有較多的技術(shù)積累。在競爭中取得地位時(shí),必須采取這種模式。(二)模式的優(yōu)、缺點(diǎn)自主創(chuàng)新所具有的優(yōu)點(diǎn)對高技術(shù)企業(yè)成長具有重要的意義。一是給予自主創(chuàng)新者的技術(shù)壟斷地位和保護(hù),自主創(chuàng)新在技術(shù)方面就具有了較強(qiáng)的壁壘。二是由于跟進(jìn)者對新技術(shù)的消化、模仿需要一定的時(shí)間,發(fā)展成為較強(qiáng)的競爭者也需要一定的過程,因此,自主創(chuàng)新企業(yè)能在一定時(shí)期內(nèi)獨(dú)占某項(xiàng)產(chǎn)品或工藝的技術(shù),使自己在競爭中處于有利地位。三是在一些技術(shù)領(lǐng)域的自主創(chuàng)新往往能引致一系列的技術(shù)創(chuàng)新,帶動(dòng)一批新產(chǎn)品的誕生,推動(dòng)新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。江蘇咨詢高新企業(yè)認(rèn)證怎么樣

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