所述的磷酸濃度為82-87%。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,醇醚類的含量為%。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,表面活性劑的含量為%。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液,所述的醇醚類為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種;表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進(jìn)一步地,在使用本發(fā)明的蝕刻液進(jìn)行氮化硅層蝕刻時(shí),蝕刻溫度為152-165℃,蝕刻時(shí)間為5-60min。通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,改善了磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力,明顯提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕和蝕刻均勻性。為了便于驗(yàn)證氮化硅薄膜層的蝕刻均勻性,本發(fā)明使用淀積了氮化硅薄膜的晶圓樣片(初始厚度約為)。蝕刻液配制完成后,先使用表面張力儀檢測(cè)該蝕刻液的表面張力;然后將氮化硅晶圓片切割成1cm*3cm的小樣片,采用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?,使用接觸角測(cè)量?jī)x檢測(cè)蝕刻液對(duì)氮化硅層的接觸角大小。在蝕刻前,使用橢圓偏振光譜儀對(duì)氮化硅樣片取不同位置共6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度的測(cè)量。BOE蝕刻液適用于什么半導(dǎo)體什么制程;湖南什么是BOE蝕刻液銷售廠家
siendoobligatorioelusodeacoplamientoscompatiblesconlamangueradelcamióncisternaylabocadecargadelosdepóápidasserándematerialesquenopuedanproducirchispasenelchoqueconotrosmaterialesyseajustaránaloespecificadoenlanormaDIN(partes1a5).Dispondrándesistemadecierreherméticoaladesconexióóánidentificadasmedianteinscripcionesclaramentelegiblesdeladenominacióéíadellenadoentraráeneldepósitohasta15centíósitosseencuentrendesplazadosdelpuntodeconexióndelosdepósitos,laslíneasdeuniónserándediámetrode4"comomínimoydispondrándependientehaciaeldepóáentodomomentolapresurizacióndeldepóíadeventilacióósitosdispondrándeunatuberíadeventilaciónytendránundiámetromínimode2"queaccederáalairelibrehastaunaalturatalquelosvaporesexpulsadosnopuedanpenetrarenloslocalesvecinosnientrarencontactoconunafuentequepudieraprovocarsuinflamación,protegiendoademáslasalidaconunarejillaapagallamasyalturamínimade3。江蘇技術(shù)密集BOE蝕刻液供應(yīng)商BOE 蝕刻液(Buffered Oxide Etch)是一種在微加工和半導(dǎo)體制造過程中常用的蝕刻溶液。
這是除去固體顆粒、電子流、水、或者或多或少具有極性的油脂污染的要求。在精細(xì)清洗中,經(jīng)常存在裝有凹槽、肋條或盲孔的非常復(fù)雜的部件,必須用溶劑對(duì)其進(jìn)行潤(rùn)濕,以使溶劑在這些難洗位置發(fā)揮作用。氟化溶劑來自提供表面的可能性的潤(rùn)濕的溶劑類型,其中,所述表面的可能性的潤(rùn)濕以非常低的表面張力表示(例如,相對(duì)于,HCFC141b為)。高潤(rùn)濕的另一優(yōu)點(diǎn)是得到基底的較快干燥。在幾乎相同的分子量下,氟化溶劑具有較低的沸點(diǎn)和較高的蒸氣壓。因此,HCFC141b在32°C下沸騰而氯仿在61°C下沸騰。這兩種性質(zhì)(低沸點(diǎn)和高蒸氣壓)有利于這些溶劑在利用蒸氣相操作的常規(guī)工業(yè)機(jī)器中的應(yīng)用,使得能夠進(jìn)行部件的漂洗和干燥,而且使得被連續(xù)蒸餾的溶劑能夠再生。這些機(jī)器裝有用于通過冷凝而使蒸氣在盤管上冷卻的大功率(heavy-duty)系統(tǒng),這些機(jī)器的操作方法使得所用高蒸氣壓的缺點(diǎn)小化。工業(yè)家們期望可用于他們的現(xiàn)有機(jī)器存貨的替代解決方案。此外,氫氟烴地用于制冷和傳熱過程。本發(fā)明提供具有低GWP且具有可生物降解的優(yōu)點(diǎn)的組合物。根據(jù)本發(fā)明的組合物含甲基四氫呋喃和至少一種式C4F90R的九氟丁基烷基醚,其中R具有14個(gè)碳原子的線型或支化的飽和烷基鏈。有利地。
然后將裝有蝕刻液的石英燒瓶放入加熱套中加熱,待加熱到確定溫度后,放入氮化硅樣片進(jìn)行蝕刻;蝕刻完后,取出樣片采用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊螅褂脵E圓偏振光譜儀對(duì)蝕刻前所取位置的6個(gè)點(diǎn)的厚度進(jìn)行測(cè)量,計(jì)算蝕刻前后6個(gè)取點(diǎn)的厚度差值,對(duì)比6個(gè)點(diǎn)之間的厚度差值的差異。與現(xiàn)有的使用磷酸作為蝕刻液相比,本發(fā)明的有益效果是:醇醚類和表面活性劑的添加能明顯改善磷酸溶液的浸潤(rùn)性和降低磷酸溶液的表面張力,有效提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕性和蝕刻均勻性。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施例,進(jìn)一步闡述本發(fā)明,對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說明,但不限于這些實(shí)施例。本發(fā)明的蝕刻液配制時(shí)選擇的磷酸濃度為85%,蝕刻溫度為160℃,蝕刻時(shí)間為10min。先對(duì)所配制蝕刻液的表面張力進(jìn)行檢測(cè),然后將氮化硅樣片使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?,進(jìn)行接觸角的測(cè)量;蝕刻前使用超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠?,在氮化硅樣片上?個(gè)不同位置的點(diǎn)對(duì)其厚度進(jìn)行測(cè)量;蝕刻完成后使用熱超純水清洗和氮?dú)獯蹈傻铇悠?,取與蝕刻前相同位置的6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度測(cè)量。實(shí)施例1本發(fā)明的實(shí)施例按蝕刻液總質(zhì)量為400g進(jìn)行配制,先稱取濃度為85%的磷酸,然后稱取添加劑加入磷酸中。專業(yè)BOE蝕刻液由蘇州博洋化學(xué)股份有限公司提供。
其擴(kuò)散管深入到所述再生液調(diào)配缸中;液體泵,其一端通過管道連接所述再生液調(diào)配缸的循環(huán)出液口,另一端通過管道連接所述射流器的進(jìn)液口,用于將所述再生液調(diào)配缸中的電解后液通過所述管道抽取至所述射流器的進(jìn)液口。進(jìn)一步地,所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括:曝氣裝置,用于向所述再生液調(diào)配缸中的電解后液輸送氣體以進(jìn)行攪拌。進(jìn)一步地,所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括:后續(xù)處理系統(tǒng),用于向經(jīng)過所述再生液調(diào)配缸處理過的電解后液中加入氯化鈉、鹽酸并攪拌均勻。更進(jìn)一步地,所述電解槽的陽(yáng)極為石墨電極,陰極為鈦或鈦合金板狀電極。更進(jìn)一步地,所述電解槽中陰極與陽(yáng)極之間的距離為55mm。更進(jìn)一步地,所述電解槽的電流密度為300a/m2。本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)通過簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了電解后廢液的再生利用,可節(jié)約能耗和藥品,提高經(jīng)濟(jì)效益。附圖說明圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖;圖2是本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。具體實(shí)施方式為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解。BOE蝕刻液蘇州博洋化學(xué)股份有限公司。山東工業(yè)級(jí)BOE蝕刻液主要作用
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