池州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液溶劑

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-05

    本實(shí)用新型涉及光刻膠生產(chǎn)設(shè)備,具體是一種光刻膠廢剝離液回收裝置。背景技術(shù):光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,其是由溶劑、感光樹脂、光引發(fā)劑和添加劑四種成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等過(guò)程,將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至待加工的襯底上,然后進(jìn)行蝕刻等工藝加工,終得到所需圖像。其中,溶劑使光刻膠具有流動(dòng)性,易揮發(fā),對(duì)于光刻膠的化學(xué)性質(zhì)幾乎沒(méi)有影響。感光樹脂是惰性的聚合物,用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑,給予光刻膠其機(jī)械和化學(xué)性質(zhì)。光引發(fā)劑是光刻膠中的光敏成分,對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。添加劑是控制光刻膠材料特殊方面的化學(xué)物質(zhì),用來(lái)控制和改變光刻膠材料的特定化學(xué)性質(zhì)或響應(yīng)特性。在光刻工藝中,一般步驟為勻膠—干燥—前烘--曝光—顯影—后烘—蝕刻—?jiǎng)冸x。在光刻膠剝離工序中會(huì)產(chǎn)生剝離廢液,光刻膠價(jià)格昂貴,如不對(duì)廢液中的光刻膠成分回收利用,會(huì)造成較大的資源浪費(fèi),因此企業(yè)通常將剝離廢液中的光刻膠樹脂進(jìn)行有效回收并應(yīng)用于再生產(chǎn)中。什么樣的剝離液可以保護(hù)底部金屬?池州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液溶劑

池州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液溶劑,剝離液

    當(dāng)前級(jí)別腔室101對(duì)應(yīng)的過(guò)濾器30被薄膜碎屑阻塞后,通過(guò)閥門開(kāi)關(guān)60關(guān)閉當(dāng)前級(jí)別腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20與過(guò)濾器30之間的液體流通,從而可以在閥門開(kāi)關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過(guò)濾器30進(jìn)行清理并不會(huì)導(dǎo)致之后的下一級(jí)腔室102的剝離進(jìn)程無(wú)法繼續(xù)。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級(jí)向玻璃基板分別提供剝離液;與多個(gè)腔室10分別對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱20,各級(jí)腔室10分別通過(guò)管道與相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連接,存儲(chǔ)箱20用于收集和存儲(chǔ)來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液;過(guò)濾器30用于過(guò)濾來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室101的存儲(chǔ)箱20的剝離液,并且過(guò)濾器30還可以通過(guò)管道與下一級(jí)腔室102連接,從而過(guò)濾器30可以將過(guò)濾后的剝離液輸送給下一級(jí)腔室102。各腔室10設(shè)計(jì)為適合進(jìn)行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結(jié)構(gòu)可參考現(xiàn)有設(shè)計(jì)在此不再贅述。各級(jí)腔室10分別于相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20通過(guò)管道連接,腔室10中經(jīng)歷剝離制程后的剝離液可以經(jīng)管道輸送至存儲(chǔ)箱20中,由存儲(chǔ)箱20來(lái)收集和存儲(chǔ)。各級(jí)腔室10的存儲(chǔ)箱20分別與相應(yīng)的過(guò)濾器30通過(guò)管道連接,經(jīng)存儲(chǔ)箱20處理后的剝離液再經(jīng)相應(yīng)的過(guò)濾器30過(guò)濾后才經(jīng)管道輸送至下一級(jí)腔室102。 江蘇半導(dǎo)體剝離液供應(yīng)剝離液,讓您的加工過(guò)程更加高效。

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    參考圖7),這種殘余物在覆蓋一系列柵極堆棧薄膜之后會(huì)被增強(qiáng)呈現(xiàn),傳遞到柵極成型工序時(shí)會(huì)對(duì)柵極圖形產(chǎn)生嚴(yán)重的影響,即在柵極曝光圖形成型之后形成埋層缺陷,在柵極刻蝕圖形成型之后造成柵極斷開(kāi)或橋接,直接降低了產(chǎn)品良率。另外,在氧氣灰化階段,由于等離子氧可以穿透襯底表面上的氧化層到達(dá)襯底硅區(qū),直接與硅反應(yīng)產(chǎn)生二氧化硅,增加了硅損失,會(huì)影響器件閾值電壓及漏電流,也會(huì)影響產(chǎn)品良率。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:在發(fā)明內(nèi)容部分中引入了一系列簡(jiǎn)化形式的概念,該簡(jiǎn)化形式的概念均為本領(lǐng)域現(xiàn)有技術(shù)簡(jiǎn)化,這將在具體實(shí)施方式部分中進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。本發(fā)明的發(fā)明內(nèi)容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護(hù)的技術(shù)方案的關(guān)鍵特征和必要技術(shù)特征,更不意味著試圖確定所要求保護(hù)的技術(shù)方案的保護(hù)范圍。本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,能降低光刻膠去除殘留物的光刻膠剝離去除方法。為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法,包括以下步驟:s1,在半導(dǎo)體襯底上淀積介質(zhì)層;可選擇的,淀積介質(zhì)層為二氧化硅薄膜??蛇x的,進(jìn)一步改進(jìn),淀積二氧化硅薄膜厚度范圍為5?!?0埃。s2,旋涂光刻膠并曝光顯影,形成光刻圖形阻擋層。

需要說(shuō)明的是,本發(fā)明剝離液中,推薦*由上述成分構(gòu)成,但只要不阻礙本發(fā)明的效果,可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說(shuō)明的本發(fā)明剝離液可以通過(guò)將上述成分溶于水中來(lái)制備。需要說(shuō)明的是,本發(fā)明剝離液的ph若為堿性則沒(méi)有特別限定,但通常**將上述成分溶于水就成為堿性,因此沒(méi)有特別必要調(diào)整ph。另外,本發(fā)明剝離液可以通過(guò)將上述成分分別分開(kāi)預(yù)先溶于水,成為抗蝕劑的剝離液套件,將它們混合來(lái)制備。具體來(lái)說(shuō),可以舉出以包含含有鉀鹽的第1液和含有溶纖劑的第2液為特征的抗蝕劑的剝離液套件、其中還包含含有硅酸鹽的第3液的抗蝕劑的剝離液套件、進(jìn)而在其中使上述其它成分適當(dāng)含有于各液中的抗蝕劑的剝離液套件等。通過(guò)使用本發(fā)明剝離液對(duì)施加有抗蝕劑的基材進(jìn)行處理,抗蝕劑被細(xì)小地粉碎。剝離液的正確使用方式;

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    光刻膠又稱光致抗蝕劑,主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng),使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴(kuò)散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至加工的基板上、***通過(guò)去膠剝離液將未曝光部分余下的光刻膠清洗掉,從而完成整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程。在液晶面板和amoled生產(chǎn)中***使用?,F(xiàn)有的剝離液主要有兩種,分別是水性剝離液和有機(jī)剝離液,由于有機(jī)剝離液只能用于具有mo/al/mo結(jié)構(gòu)的制程中,無(wú)法用于ito/ag/ito;且乙醇胺的含量高達(dá)60%以上,有很強(qiáng)的腐蝕性,因此,常用的剝離液是水性剝離液,現(xiàn)有的水性剝離液主要成分為有機(jī)胺化合物、極性有機(jī)溶劑以及水,但現(xiàn)有的水性剝離液大都存在腐蝕金屬配線、光刻膠殘留、環(huán)境污染大、影響操作人員的安全性、剝離效果差等問(wèn)題。 哪家的剝離液配方比較好?浙江銅鈦蝕刻液剝離液報(bào)價(jià)

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    所述過(guò)濾器包括多個(gè)并列排布的子過(guò)濾器,所述道包括多個(gè)子管道,每一所述子管道與一子過(guò)濾器連通,且所述多個(gè)子管道與當(dāng)前級(jí)腔室對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱連通。在一些實(shí)施例中,所述第二管道包括公共子管道及多個(gè)第二子管道,每一所述第二子管道與一子過(guò)濾器連通,每一所述第二子管道與所述公共子管道連通,所述公共子管道與所述下一級(jí)腔室連通。在一些實(shí)施例中,所述閥門開(kāi)關(guān)設(shè)置在每一所述子管道上。在一些實(shí)施例中,所述閥門開(kāi)關(guān)設(shè)置在每一所述第二子管道上。在一些實(shí)施例中,所述閥門開(kāi)關(guān)設(shè)置在每一所述子管道及每一所述第二子管道上。在一些實(shí)施例中,所述第二管道包括多個(gè)第三子管道,每一所述第三子管道與一子過(guò)濾器連通,且每一所述第三子管道與所述下一級(jí)腔室連通。在一些實(shí)施例中,所述閥門開(kāi)關(guān)設(shè)置在每一所述第三子管道上。本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法,包括:將多級(jí)腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級(jí)向剝離基板提供剝離液;將來(lái)自于當(dāng)前級(jí)腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲(chǔ)于當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的存儲(chǔ)箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;使用當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的過(guò)濾器過(guò)濾來(lái)自當(dāng)前級(jí)腔室的剝離液并將過(guò)濾后的剝離液傳輸至下一級(jí)腔室。池州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液溶劑