定制化服務(wù)
可根據(jù)客戶的不同應(yīng)用場(chǎng)景和特殊需求,提供個(gè)性化的MOS管解決方案,滿足多樣化的電路設(shè)計(jì)要求。
專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為客戶提供***的技術(shù)支持,從產(chǎn)品選型到應(yīng)用設(shè)計(jì),全程協(xié)助,確??蛻裟軌虺浞职l(fā)揮MOS管的性能優(yōu)勢(shì)。
提供完善的售后服務(wù),快速響應(yīng)客戶的問(wèn)題和需求,及時(shí)解決產(chǎn)品使用過(guò)程中遇到的任何問(wèn)題。
建立長(zhǎng)期的客戶反饋機(jī)制,不斷收集客戶意見(jiàn),持續(xù)改進(jìn)產(chǎn)品和服務(wù),與客戶共同成長(zhǎng)。
我們誠(chéng)邀廣大電子產(chǎn)品制造商、科研機(jī)構(gòu)等與我們攜手合作,共同探索MOS管在更多領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用,開(kāi)拓市場(chǎng),實(shí)現(xiàn)互利共贏。 電動(dòng)汽車和混合動(dòng)力汽車中,MOS 管是電池管理系統(tǒng)(BMS)和電機(jī)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的關(guān)鍵元件嗎?推廣MOS制品價(jià)格
杭州士蘭微電子(SILAN)作為國(guó)內(nèi)**的半導(dǎo)體企業(yè),在 MOS 管領(lǐng)域擁有豐富的產(chǎn)品線和技術(shù)積累
技術(shù)優(yōu)勢(shì):高集成、低功耗、國(guó)產(chǎn)替代集成化設(shè)計(jì):如SD6853/6854內(nèi)置高壓MOS管,省去光耦和Y電容,簡(jiǎn)化電源方案(2011年推出,后續(xù)升級(jí)至滿足能源之星標(biāo)準(zhǔn))。工藝迭代:0.8μmBiCMOS/BCD工藝(早期)、8英寸SiC產(chǎn)線(在建),提升產(chǎn)能與性能,F(xiàn)-Cell系列芯片面積縮小20%,成本降低??煽啃裕簴旁磽舸╇妷簝?yōu)化,ESD能力>±15kV(SD6853/6854),滿足家電、工業(yè)長(zhǎng)期穩(wěn)定需求。國(guó)產(chǎn)替代:2022年**MOS管(如超結(jié)、車規(guī)級(jí))訂單飽滿,供不應(yīng)求,覆蓋消費(fèi)電子(手機(jī)充電器)、白電(壓縮機(jī))、新能源(充電樁)等領(lǐng)域。 推廣MOS制品價(jià)格在數(shù)字電路和各種電源電路中,MOS 管常被用作開(kāi)關(guān)嗎?
MOS管(金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)分為n溝道MOS管(NMOS)和p溝道MOS管(PMOS),其工作原理主要基于半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性以及電場(chǎng)對(duì)載流子的控制作用,以下從結(jié)構(gòu)和工作機(jī)制方面進(jìn)行介紹:結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)NMOS:以一塊摻雜濃度較低的P型硅半導(dǎo)體薄片作為襯底,在P型硅表面的兩側(cè)分別擴(kuò)散兩個(gè)高摻雜濃度的N+區(qū),這兩個(gè)N+區(qū)分別稱為源極(S)和漏極(D),在源極和漏極之間的P型硅表面覆蓋一層二氧化硅(SiO?)絕緣層,在絕緣層上再淀積一層金屬鋁作為柵極(G)。這樣就形成了一個(gè)金屬-氧化物-半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),在源極和襯底之間以及漏極和襯底之間都形成了PN結(jié)。PMOS:與NMOS結(jié)構(gòu)相反,PMOS的襯底是N型硅,源極和漏極是P+區(qū),柵極同樣是通過(guò)絕緣層與襯底隔開(kāi)。工作機(jī)制以NMOS為例截止區(qū):當(dāng)柵極電壓VGS小于閾值電壓VTH時(shí),在柵極下方的P型襯底表面形成的是耗盡層,沒(méi)有反型層出現(xiàn),源極和漏極之間沒(méi)有導(dǎo)電溝道,此時(shí)即使在漏極和源極之間加上電壓VDS,也只有非常小的反向飽和電流(漏電流)通過(guò),MOS管處于截止?fàn)顟B(tài),相當(dāng)于開(kāi)關(guān)斷開(kāi)。
MOS管(金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)是一種重要的電子元器件,在電子電路中具有***的用處,主要包括以下幾個(gè)方面:放大電路?音頻放大器:在音頻設(shè)備中,如收音機(jī)、功放等,MOS管常被用作放大器。它可以將微弱的音頻電信號(hào)進(jìn)行放大,使音頻信號(hào)能夠驅(qū)動(dòng)揚(yáng)聲器發(fā)出足夠音量的聲音,且MOS管具有較低的噪聲和較高的線性度,能夠保證音頻信號(hào)的質(zhì)量。?射頻放大器:在無(wú)線通信設(shè)備的射頻前端,MOS管用于放大射頻信號(hào)。例如在手機(jī)的射頻電路中,MOS管組成的放大器將天線接收到的微弱射頻信號(hào)放大到合適的幅度,以便后續(xù)電路進(jìn)行處理,其高頻率特性和低噪聲性能對(duì)于實(shí)現(xiàn)良好的無(wú)線通信至關(guān)重要。開(kāi)關(guān)電路?電源開(kāi)關(guān):在各種電子設(shè)備的電源電路中,MOS管常作為電源開(kāi)關(guān)使用。例如在筆記本電腦的電源管理電路中,通過(guò)控制MOS管的導(dǎo)通和截止,來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)不同電源軌的通斷控制,從而實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的開(kāi)機(jī)、關(guān)機(jī)以及電源切換等功能。MOS 管可用于放大和處理微弱的射頻信號(hào)嗎?
醫(yī)療電子領(lǐng)域
在超聲波設(shè)備的發(fā)射模塊中,控制高頻脈沖的生成,用于成像和診斷,為醫(yī)生提供清晰、準(zhǔn)確的醫(yī)療影像,幫助疾病的早期發(fā)現(xiàn)和診斷。
在心率監(jiān)測(cè)儀和血氧儀等便攜式醫(yī)療設(shè)備中,實(shí)現(xiàn)電源管理和信號(hào)調(diào)節(jié)功能,保障設(shè)備的精細(xì)測(cè)量,為患者的健康監(jiān)測(cè)提供可靠支持。
在呼吸機(jī)和除顫儀等關(guān)鍵生命支持設(shè)備中,提供高可靠性的開(kāi)關(guān)和電源控制能力,關(guān)鍵時(shí)刻守護(hù)患者生命安全。
在風(fēng)力發(fā)電設(shè)備的變頻控制系統(tǒng)中,確保發(fā)電效率和穩(wěn)定性,助力風(fēng)力發(fā)電事業(yè)的蓬勃發(fā)展。 MOS管可用于適配器嗎?現(xiàn)代化MOS使用方法
小電流 MOS 管能夠精確小電流的流動(dòng),實(shí)現(xiàn)對(duì)微弱信號(hào)的放大和處理。推廣MOS制品價(jià)格
MOS管工作原理:電壓控制的「電子閥門(mén)」MOS管(金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)的**是通過(guò)柵極電壓控制導(dǎo)電溝道的形成,實(shí)現(xiàn)電流的開(kāi)關(guān)或調(diào)節(jié),其工作原理可拆解為以下關(guān)鍵環(huán)節(jié):
一、基礎(chǔ)結(jié)構(gòu):以N溝道增強(qiáng)型為例材料:P型硅襯底(B)上制作兩個(gè)高摻雜N型區(qū)(源極S、漏極D),表面覆蓋二氧化硅(SiO?)絕緣層,頂部為金屬柵極G。初始狀態(tài):柵壓VGS=0時(shí),S/D間為兩個(gè)背靠背PN結(jié),無(wú)導(dǎo)電溝道,ID=0(截止態(tài))。
二、導(dǎo)通原理:柵壓誘導(dǎo)導(dǎo)電溝道柵壓作用:當(dāng)VGS>0(N溝道),柵極正電壓在SiO?層產(chǎn)生電場(chǎng),排斥P襯底表面的空穴,吸引電子聚集,形成N型導(dǎo)電溝道(反型層)。溝道形成的臨界電壓稱開(kāi)啟電壓VT(通常2-4V),VGS越大,溝道越寬,導(dǎo)通電阻Rds(on)越?。ㄈ?mΩ級(jí))。漏極電流控制:溝道形成后,漏源電壓VDS使電子從S流向D,形成電流ID。線性區(qū)(VDS<VGS-VT):ID隨VDS線性增加,溝道均勻?qū)?;飽和區(qū)(VDS≥VGS-VT):漏極附近溝道夾斷,ID*由VGS決定,進(jìn)入恒流狀態(tài)。 推廣MOS制品價(jià)格