立式爐在半導體制造中有哪些關鍵作用？

賽瑞達智能電子裝備（無錫）有限公司2025-04-19

在薄膜沉積工藝中，立式爐能在低壓環(huán)境下，通過精確控制氣體流量和溫度，讓氣體前驅(qū)體在晶圓表面發(fā)生化學反應，沉積出如多晶硅、氮化硅等高質(zhì)量薄膜，為后續(xù)半導體器件的制作奠定基礎。在氧化工藝里，可生成用于絕緣、隔離等功能的氧化層，像柵氧化層、場氧化層等，這些氧化層對半導體器件的性能起著關鍵作用。退火工藝時，立式爐能消除晶圓在制造過程中產(chǎn)生的內(nèi)部應力，改善晶體結(jié)構(gòu)，提升半導體材料的電學性能和穩(wěn)定性。

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