維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數(shù)測(cè)量能力,為激光技術(shù)在各領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用提供支持。在工業(yè)制造中,其亞微米級(jí)光斑校準(zhǔn)功能幫助優(yōu)化激光切割、焊接與打標(biāo)工藝,確保光束能量分布均勻性,提升加工一致性。醫(yī)療領(lǐng)域中,BeamHere 用于眼科準(zhǔn)分子激光設(shè)備的光束形態(tài)監(jiān)測(cè),通過(guò)實(shí)時(shí)分析能量分布與光斑穩(wěn)定性,保障手術(shù)精度與安全性??蒲袌?chǎng)景下,該設(shè)備支持超短脈沖激光的時(shí)空特性,為新型激光器與光束整形技術(shù)突破提供數(shù)據(jù)支撐。光通信領(lǐng)域,BeamHere 可檢測(cè)光纖端面光斑質(zhì)量,優(yōu)化光信號(hào)耦合效率,確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產(chǎn)品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍,支持千萬(wàn)級(jí)功率測(cè)量,結(jié)合 M2 因子分析與 AI 算法,為客戶提供從光束診斷到工藝優(yōu)化的全流程解決方案。極小光斑測(cè)量的光斑分析儀。激光聚焦直徑光斑分析儀價(jià)格多少
維度光電光束質(zhì)量測(cè)量解決方案應(yīng)用場(chǎng)景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業(yè)、醫(yī)療、科研等多領(lǐng)域: 工業(yè)制造:高功率激光切割 / 焊接實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),優(yōu)化熱影響區(qū)控制;亞微米光斑檢測(cè)保障半導(dǎo)體晶圓劃片良率。 醫(yī)療健康:飛秒激光手術(shù)光斑能量分析,提升角膜切削精度;M2 因子模塊校準(zhǔn)醫(yī)用激光設(shè)備光束質(zhì)量。 :解析超快激光傳輸特性,支持新型激光器;高精度參數(shù)測(cè)量加速非線性光學(xué)實(shí)驗(yàn)進(jìn)展。 光通信:光纖端面光斑形態(tài)優(yōu)化,保障光器件耦合效率;激光器性能一致性檢測(cè)。 新興領(lǐng)域:Bessel 光束能量分布分析助力光鑷系統(tǒng)精度提升;激光育種參數(shù)優(yōu)化推動(dòng)作物改良。 優(yōu)勢(shì): 全場(chǎng)景適配:狹縫式(高功率 / 亞微米)與相機(jī)式(脈沖 / 復(fù)雜光束)組合覆蓋多樣化需求。 智能分析:AI 算法自動(dòng)識(shí)別光斑異常,生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。 模塊化擴(kuò)展:支持 M2 因子測(cè)試、寬光譜適配等功能升級(jí)。遠(yuǎn)紅外光斑分析儀光斑測(cè)試近場(chǎng)光斑測(cè)試方案,推進(jìn)半導(dǎo)體,硅光行業(yè)優(yōu)化升級(jí)。
使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無(wú)畸變成像。 2. 信號(hào)處理 采集到的模擬信號(hào)經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過(guò)數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(hào)(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計(jì)算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角:通過(guò)不同位置光斑尺寸計(jì)算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長(zhǎng)校準(zhǔn)模塊(400-1700nm),每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn),確保測(cè)量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測(cè)量數(shù)據(jù)自動(dòng)加密存儲(chǔ)于本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù),支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。
BeamHere 分析軟件作為組件,支持多設(shè)備協(xié)同工作:掃描數(shù)據(jù)自動(dòng)校準(zhǔn)、光斑模式智能識(shí)別、M2 因子三維重建。通過(guò)機(jī)器學(xué)習(xí)算法,可自動(dòng)補(bǔ)償環(huán)境光干擾與溫度漂移。通過(guò)可視化界面,用戶可實(shí)時(shí)查看光斑能量分布云圖、發(fā)散角變化曲線及束腰位置動(dòng)態(tài)圖,支持多參數(shù)聯(lián)動(dòng)分析。軟件內(nèi)置模板庫(kù),一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,支持 PDF/Excel/XML 多格式導(dǎo)出,并支持?jǐn)?shù)據(jù)追溯與批量處理,歷史數(shù)據(jù)可自動(dòng)關(guān)聯(lián)測(cè)試條件,縮短測(cè)試周期。企業(yè)版支持用戶權(quán)限分級(jí)管理與數(shù)據(jù)加密。光斑分析儀國(guó)產(chǎn)替代都有哪些廠家?
維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列,整合掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線,為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供全場(chǎng)景解決方案。 掃描狹縫式光斑分析儀刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,支持 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量。0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),無(wú)需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備等高能量場(chǎng)景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析,可測(cè)量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品,通過(guò) ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場(chǎng)景。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊評(píng)估激光質(zhì)量?維度光斑分析儀作用
多光斑光束質(zhì)量測(cè)量系統(tǒng)。激光聚焦直徑光斑分析儀價(jià)格多少
Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個(gè)型號(hào),覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)顯示與分析。其優(yōu)勢(shì)如下: 寬光譜覆蓋與動(dòng)態(tài)分析 單臺(tái)設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測(cè)量需求,支持 2D 光斑實(shí)時(shí)成像與 3D 功率分布動(dòng)態(tài)分析。高幀率連續(xù)測(cè)量模式下,可實(shí)時(shí)捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動(dòng)態(tài)測(cè)試及時(shí)間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測(cè)量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過(guò)獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測(cè)功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計(jì)簡(jiǎn)化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級(jí)功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計(jì),光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動(dòng)軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測(cè)與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。激光聚焦直徑光斑分析儀價(jià)格多少