激光光斑分析儀發(fā)展

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀，通過配套通用軟件構建完整光束質量評估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測繪、發(fā)散角測量及 M2 因子計算三大功能，可有效分析光束整形、聚焦及準直效果。所有參數均符合 ISO11146 標準，包括光斑寬度、質心偏移量和橢圓率等指標。用戶可選配 M2 測試模塊，實現光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測量及 M2 因子計算，終通過軟件一鍵生成標準化測試報告。BeamHere把對于激光光束的評價進?量化，并由軟件?鍵輸出測試報告，精確且?效的完成光束分析。用于千瓦光斑測量的大功率配件。激光光斑分析儀發(fā)展

維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數測量能力，為激光技術在各領域的創(chuàng)新應用提供支持。在工業(yè)制造中，其亞微米級光斑校準功能幫助優(yōu)化激光切割、焊接與打標工藝，確保光束能量分布均勻性，提升加工一致性。醫(yī)療領域中，BeamHere 用于眼科準分子激光設備的光束形態(tài)監(jiān)測，通過實時分析能量分布與光斑穩(wěn)定性，保障手術精度與安全性?？蒲袌鼍跋拢撛O備支持超短脈沖激光的時空特性，為新型激光器與光束整形技術突破提供數據支撐。光通信領域，BeamHere 可檢測光纖端面光斑質量，優(yōu)化光信號耦合效率，確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍，支持千萬級功率測量，結合 M2 因子分析與 AI 算法，為客戶提供從光束診斷到工藝優(yōu)化的全流程解決方案。狹縫光斑分析儀網站光斑分析儀維護成本？維度光電遠程指導維修，降低 80% 人工成本。

在激光應用領域，高功率光束檢測一直是個難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏，在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會飽和，常規(guī)激光器功率遠超此強度，不衰減光束不僅無法測量光斑信息，還可能損壞設備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng)。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制，可直接測量近 10W 的高功率激光，無需額外衰減片。在此基礎上，還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件，可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配，可測功率超 1000W。單次取樣配件型號 DL - LBA - 1，45° 傾斜設計，取樣率 4% - 5%，有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結構，能測量任意角度入射激光；雙次取樣配件型號 DL - LBA - 2，內部緊湊安裝兩片取樣透鏡，取樣率 0.16% - 0.25%，可應對 400W 功率光束，多面體結構有多個支撐安裝孔位。組合安裝配件可進一步衰減更高功率激光，大衰減程度達 10??。而且其緊湊結構的取樣光程能滿足聚焦光斑測量需求，單次取樣 68mm，雙次取樣 53mm，為各類激光應用場景的檢測提供了方案。

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質量檢測提供高性價比解決方案： 掃描狹縫式：國內刀口 / 狹縫雙模式切換，覆蓋 190-2700nm 光譜，可測 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實現亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機制支持 10W 級高功率直接測量，無需外置衰減片。 相機式：400-1700nm 寬譜響應，支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉輪設計擴展功率量程，可拆卸結構兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊：通過 ISO 11146 標準算法，測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數，適配全系產品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面，支持一鍵生成標準化報告，滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設計實現高精度檢測，助力客戶提升效率與產品質量。高功率激光光束質量怎么測？

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業(yè)切割）應選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經濟），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節(jié)。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業(yè)制造：高功率加工（>1W）選狹縫式，動態(tài)監(jiān)測與大光斑校準選相機式，組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設備：眼科準分子激光需相機式實時監(jiān)測能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式，確保手術精度。 ：超短脈沖測量、復雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機式，材料加工優(yōu)化可結合狹縫式高精度掃描。 光通信：光纖端面檢測選相機式分析光斑形態(tài)，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。復雜或高階橫模的光斑測試系統(tǒng)怎么搭建？光束質量光斑分析儀光斑測試

發(fā)散較大，怎么測量光束質量？激光光斑分析儀發(fā)展

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級用相機式（10mm 量程）。 功率等級：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級用相機式（適配衰減片）。 光束形態(tài)：高斯用狹縫式（經濟），非高斯用相機式（保留細節(jié)）。 脈沖特性：單脈沖用相機式（觸發(fā)同步），連續(xù)/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業(yè)：高功率用狹縫式，動態(tài)監(jiān)測與校準用相機式，組合方案覆蓋全流程。 醫(yī)療：相機式監(jiān)測能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研：超短脈沖與復雜光束分析用相機式，材料加工優(yōu)化結合狹縫式。 光通信：光纖檢測用相機式，激光器表征用狹縫式高靈敏度測量。 3. 功能擴展規(guī)劃 單一需求：以光斑尺寸與功率為，如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復雜場景：雙技術組合（狹縫式 + 相機式），實現全場景覆蓋。 長期規(guī)劃：科研機構選全功能模塊（M2 因子測試、皮秒同步），工業(yè)用戶選基礎款 + 定制接口。激光光斑分析儀發(fā)展