使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量激光光斑和質(zhì)量,包括以下步驟: 準(zhǔn)備:準(zhǔn)備 BeamHere 光斑分析儀、激光器和數(shù)據(jù)處理軟件。確保光斑傳感器放置并連接到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)采集:?jiǎn)?dòng)激光器,穩(wěn)定照射傳感器,實(shí)時(shí)傳輸圖像信息到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)分析:BeamHere 軟件自動(dòng)處理數(shù)據(jù),計(jì)算光斑參數(shù)和光束質(zhì)量參數(shù),支持 2D/3D 視圖。 結(jié)果展示:軟件以圖表和數(shù)值展示結(jié)果,一鍵生成包含所有數(shù)據(jù)的測(cè)試報(bào)告,便于導(dǎo)出和打印。 這些步驟幫助用戶測(cè)量光斑和光束質(zhì)量,支持激光技術(shù)。復(fù)雜或高階橫模的光斑測(cè)試系統(tǒng)怎么搭建?激光聚焦直徑光斑分析儀價(jià)格多少
Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場(chǎng)景的光斑尺寸、功率等級(jí)、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度。相機(jī)式基于面陣傳感器成像,可測(cè)大10mm 光斑(受限于 sensor 尺寸),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元),結(jié)合 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配)實(shí)現(xiàn) 1W 功率測(cè)量,適合大光斑、脈沖激光(觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖)及非高斯光束(如貝塞爾光束)檢測(cè),通過面陣實(shí)時(shí)反饋保留復(fù)雜形態(tài)細(xì)節(jié)。狹縫式采用正交狹縫掃描,刀口模式可測(cè)小 2.5μm 光斑,創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測(cè)量近 10W 高功率激光,適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測(cè),但需嚴(yán)格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失,且復(fù)雜光斑會(huì)因狹縫累加導(dǎo)致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術(shù)方案,用戶可根據(jù)光斑尺寸(亞微米選狹縫,大光斑選相機(jī))、功率等級(jí)(高功率選狹縫,微瓦級(jí)選相機(jī))及光斑類型(復(fù)雜形態(tài)選相機(jī),高斯光斑選狹縫)靈活選擇,實(shí)現(xiàn)光斑檢測(cè)全場(chǎng)景覆蓋。維度光電光斑分析儀發(fā)展半導(dǎo)體行業(yè)激光光束質(zhì)量檢測(cè)方案。
維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測(cè)量光束質(zhì)量參數(shù),為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應(yīng)用提供支撐。工業(yè)加工中,其亞微米級(jí)光斑校準(zhǔn)能力幫助優(yōu)化切割、焊接與打標(biāo)工藝,確保光束輪廓一致性,保障加工質(zhì)量。醫(yī)療領(lǐng)域用于眼科準(zhǔn)分子激光手術(shù)設(shè)備校準(zhǔn),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光束能量分布,確保手術(shù)安全性??蒲袌?chǎng)景中支持皮秒級(jí)脈沖激光測(cè)量,為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù),推動(dòng)新型激光器件。光通信領(lǐng)域可實(shí)現(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析,保障光信號(hào)傳輸穩(wěn)定性。農(nóng)業(yè)與生命中,通過分析激光誘變育種光束參數(shù),優(yōu)化植物生長(zhǎng)調(diào)控效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜,支持千萬級(jí)功率測(cè)量,結(jié)合M2因子測(cè)試模塊與AI分析軟件,為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到傳播特性的全鏈路檢測(cè)方案,助力客戶提升產(chǎn)品性能與生產(chǎn)效率。
維度光電聚焦激光領(lǐng)域應(yīng)用,推出覆蓋千瓦高功率、微米小光斑及脈沖激光的光束質(zhì)量測(cè)量解決方案。全系產(chǎn)品包含掃描狹縫式與相機(jī)式兩大技術(shù)平臺(tái):狹縫式通過正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪實(shí)現(xiàn) 0.1μm 超高分辨率,可直接測(cè)量近 10W 激光,適用于半導(dǎo)體晶圓切割等亞微米級(jí)場(chǎng)景;相機(jī)式采用面陣傳感器實(shí)時(shí)捕獲光斑形態(tài),支持皮秒級(jí)觸發(fā)同步,分析脈沖激光能量分布。技術(shù)突破包括:基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的 M2 因子算法,實(shí)現(xiàn)光束發(fā)散角、束腰位置等 18 項(xiàng)參數(shù)測(cè)量;AI 缺陷診斷系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別光斑異常,率達(dá) 97.2%。在工業(yè)實(shí)戰(zhàn)中,狹縫式設(shè)備通過實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光斑橢圓率,幫助某汽車零部件廠商將激光切割合格率提升至 99.6%;科研場(chǎng)景下,相機(jī)式與 M2 模塊組合成功解析飛秒激光傳輸特性,相關(guān)成果發(fā)表于《Nature Photonics》。針對(duì)不同需求,維度光電提供 "檢測(cè)設(shè)備 + 自動(dòng)化接口 + 云平臺(tái)" 工業(yè)方案及 "全功能主機(jī) + 定制模塊" 科研方案,助力客戶縮短周期 40% 以上。未來將多模態(tài)融合設(shè)備與手持式分析儀,推動(dòng)激光測(cè)量技術(shù)智能化升級(jí)。有沒有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊產(chǎn)品?
維度光電將在以下領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新: 多模態(tài)融合:波前傳感與光斑分析一體化設(shè)備,同步獲取振幅 / 相位信息 微型化突破:推出小型光束分析儀(尺寸 < 150mm3),支持現(xiàn)場(chǎng)快速檢測(cè) 智能化升級(jí):引入數(shù)字孿生技術(shù),構(gòu)建光束質(zhì)量預(yù)測(cè)模型 標(biāo)準(zhǔn)制定:主導(dǎo)制定《高功率激光光束測(cè)量技術(shù)規(guī)范》國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) 行業(yè)影響: 工業(yè):通過預(yù)測(cè)性維護(hù)降低設(shè)備停機(jī)率 25% 醫(yī)療:實(shí)現(xiàn)激光參數(shù)個(gè)性化調(diào)控 科研:加速矢量光束、超構(gòu)表面等前沿技術(shù)轉(zhuǎn)化 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測(cè)量與分析。光斑分析儀廠家哪家好?推薦維度光電!激光器光斑分析儀操作
M2 因子測(cè)量模塊怎么選?維度光電 M2 因子測(cè)量模塊,搭配光斑分析儀,測(cè)量激光光束質(zhì)量。激光聚焦直徑光斑分析儀價(jià)格多少
使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號(hào)處理 采集到的模擬信號(hào)經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(hào)(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計(jì)算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角:通過不同位置光斑尺寸計(jì)算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長(zhǎng)校準(zhǔn)模塊(400-1700nm),每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn),確保測(cè)量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測(cè)量數(shù)據(jù)自動(dòng)加密存儲(chǔ)于本地?cái)?shù)據(jù)庫,支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。激光聚焦直徑光斑分析儀價(jià)格多少