國(guó)產(chǎn)化光斑分析儀原廠

選擇適合特定應(yīng)用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應(yīng)用場(chǎng)景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級(jí)光斑（如半導(dǎo)體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級(jí)光斑（如激光焊接）推薦相機(jī)式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級(jí)：高功率激光（如工業(yè)切割）應(yīng)選狹縫式（直接測(cè)量近 10W），微瓦級(jí)弱光（如科研實(shí)驗(yàn)）可采用相機(jī)式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟(jì)），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機(jī)式保留細(xì)節(jié)。 脈沖特性：?jiǎn)蚊}沖分析選相機(jī)式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應(yīng)用場(chǎng)景適配 工業(yè)制造：高功率加工（>1W）選狹縫式，動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)與大光斑校準(zhǔn)選相機(jī)式，組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設(shè)備：眼科準(zhǔn)分子激光需相機(jī)式實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式，確保手術(shù)精度。 ：超短脈沖測(cè)量、復(fù)雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機(jī)式，材料加工優(yōu)化可結(jié)合狹縫式高精度掃描。 光通信：光纖端面檢測(cè)選相機(jī)式分析光斑形態(tài)，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測(cè)量。半導(dǎo)體行業(yè)激光光束質(zhì)量檢測(cè)方案。國(guó)產(chǎn)化光斑分析儀原廠

Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作，可測(cè)量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評(píng)估模塊，可對(duì)聚焦光斑形態(tài)、準(zhǔn)直系統(tǒng)性能進(jìn)行量化檢驗(yàn)。用戶可根據(jù)需求擴(kuò)展 M2 測(cè)試功能，實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動(dòng)態(tài)分析。所有檢測(cè)數(shù)據(jù)均通過軟件進(jìn)行智能處理，一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)： 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡(jiǎn)單易用，一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。光斑分析儀怎么搭建M2因子測(cè)量模塊，兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測(cè)試。

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設(shè)計(jì)：掃描狹縫式側(cè)重高功率場(chǎng)景（千萬級(jí)功率），通過物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn)安全測(cè)量，衰減級(jí)數(shù)達(dá) 10?:1，無需外置衰減片；相機(jī)式則主打?qū)捁庾V（200-2600nm）與實(shí)時(shí)成像功能，支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設(shè)備，其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上，可解析直徑小于 5μm 的亞微米級(jí)光斑；M2 測(cè)試模塊支持光束傳播特性動(dòng)態(tài)分析，通過滑軌式掃描獲取 100 + 測(cè)量點(diǎn)數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法，可自動(dòng)識(shí)別光斑模式，率達(dá) 99.7%，將人工分析效率提升 90%，單組數(shù)據(jù)處理時(shí)間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。

Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場(chǎng)景的光斑尺寸、功率等級(jí)、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度。相機(jī)式基于面陣傳感器成像，可測(cè)大10mm 光斑（受限于 sensor 尺寸），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元），結(jié)合 6 片衰減片（BeamHere 標(biāo)配）實(shí)現(xiàn) 1W 功率測(cè)量，適合大光斑、脈沖激光（觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖）及非高斯光束（如貝塞爾光束）檢測(cè)，通過面陣實(shí)時(shí)反饋保留復(fù)雜形態(tài)細(xì)節(jié)。狹縫式采用正交狹縫掃描，刀口模式可測(cè)小 2.5μm 光斑，創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測(cè)量近 10W 高功率激光，適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測(cè)，但需嚴(yán)格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失，且復(fù)雜光斑會(huì)因狹縫累加導(dǎo)致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術(shù)方案，用戶可根據(jù)光斑尺寸（亞微米選狹縫，大光斑選相機(jī)）、功率等級(jí)（高功率選狹縫，微瓦級(jí)選相機(jī)）及光斑類型（復(fù)雜形態(tài)選相機(jī)，高斯光斑選狹縫）靈活選擇，實(shí)現(xiàn)光斑檢測(cè)全場(chǎng)景覆蓋。極小光斑測(cè)量的光斑分析儀。

維度光電BeamHere 光斑分析儀系列，提供全場(chǎng)景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜，包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù)，實(shí)現(xiàn)亞微米至毫米級(jí)光斑測(cè)量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測(cè)，具備 0.1μm 分辨率，適用于高功率激光。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng)，實(shí)現(xiàn) 2D/3D 成像分析，測(cè)量功率范圍 1μW-1W。M2 因子測(cè)試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)，評(píng)估光束質(zhì)量。軟件提供自動(dòng)化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗(yàn)、光鑷系統(tǒng)檢測(cè)和準(zhǔn)直監(jiān)測(cè)。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化，通過 CE/FCC 認(rèn)證，應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域，助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化?？捎糜诋a(chǎn)線檢測(cè)的光斑分析儀。國(guó)產(chǎn)光斑分析儀怎么樣

脈沖激光光束質(zhì)量怎么測(cè)檢測(cè)？維度光電，超快激光器研發(fā)利器。國(guó)產(chǎn)化光斑分析儀原廠

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列，整合掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線，為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供全場(chǎng)景解決方案。 掃描狹縫式光斑分析儀刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，支持 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量。0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)，無需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備等高能量場(chǎng)景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析，可測(cè)量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展，可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品，通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)（M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等），結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求，兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場(chǎng)景。國(guó)產(chǎn)化光斑分析儀原廠