東莞LCD光刻膠價格

來源: 發(fā)布時間:2025-05-28

產(chǎn)品優(yōu)勢:多元化布局與專業(yè)化延伸

 全品類覆蓋
吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等,形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線。例如:

? 芯片光刻膠:覆蓋i線、g線光刻膠,適用于6英寸、8英寸晶圓制造。

? 納米壓印光刻膠:用于MEMS、光學(xué)器件等領(lǐng)域,替代傳統(tǒng)光刻工藝。

 專業(yè)化延伸
公司布局半導(dǎo)體用KrF光刻膠,計劃2025年啟動研發(fā),目標(biāo)進(jìn)入中芯國際、長江存儲等晶圓廠供應(yīng)鏈。

質(zhì)量與生產(chǎn)優(yōu)勢:嚴(yán)格品控與自動化生產(chǎn)

 ISO認(rèn)證與全流程管控
公司通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認(rèn)證,生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理,原材料采用美、德、日進(jìn)口高質(zhì)量材料,確保產(chǎn)品批次穩(wěn)定性。
質(zhì)量指標(biāo):光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb,良率超99%。

 自動化生產(chǎn)能力
擁有行業(yè)前列的全自動化生產(chǎn)線,年產(chǎn)能達(dá)2000噸(光刻膠及配套材料),支持大規(guī)模訂單交付。

光刻膠解決方案找吉田,ISO 認(rèn)證 + 8S 管理,良率達(dá) 98%!東莞LCD光刻膠價格

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  1. 正性光刻膠(如 YK-300)
    應(yīng)用場景:用于芯片的精細(xì)圖案化,如集成電路(IC)、分立器件(二極管、三極管)的制造。
    特點(diǎn):高分辨率(可達(dá)亞微米級),適用于多層光刻工藝,確保芯片電路的高精度與可靠性。
  2. 負(fù)性光刻膠(如 JT-1000)
    應(yīng)用場景:用于功率半導(dǎo)體(如 MOSFET、IGBT)的制造,以及傳感器(如 MEMS)的微結(jié)構(gòu)成型。
    特點(diǎn):抗蝕刻能力強(qiáng),適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。
  3. 納米壓印光刻膠(JT-2000)
    應(yīng)用場景:第三代半導(dǎo)體(GaN、SiC)芯片、量子點(diǎn)器件及微流控芯片的制造。特點(diǎn):耐高溫(250℃)、耐酸堿,支持納米級精度圖案復(fù)制,降低芯片的制造成本。
阻焊油墨光刻膠多少錢半導(dǎo)體芯片制造,用于精細(xì)電路圖案光刻,決定芯片性能與集成度。

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光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域

光刻膠是微電子制造的主要材料,廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:

 半導(dǎo)體制造

? 功能:在晶圓表面形成微細(xì)電路圖案,作為蝕刻或離子注入的掩膜。

? 分類:

? 正性光刻膠:曝光區(qū)域溶解于顯影液,形成與掩膜版一致的圖案(主流,分辨率高)。

? 負(fù)性光刻膠:未曝光區(qū)域溶解,形成反向圖案(用于早期工藝,耐蝕刻性強(qiáng))。

? 技術(shù)演進(jìn):隨制程精度提升,需匹配不同曝光波長(紫外UV、深紫外DUV、極紫外EUV),例如EUV光刻膠用于7nm以下制程。

 平板顯示(LCD/OLED)

? 彩色濾光片(CF):在玻璃基板上制作紅/綠/藍(lán)像素單元,光刻膠用于圖案化黑矩陣(BM)、彩色層(R/G/B)和保護(hù)層。

? 電極圖案:制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽極,需高透光率和精細(xì)邊緣控制。

 印刷電路板(PCB)

? 線路蝕刻:在覆銅板上涂膠,曝光顯影后保留線路區(qū)域,蝕刻去除未保護(hù)的銅箔,形成導(dǎo)電線路。

? 阻焊與字符層:阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域,防止短路;字符膠用于印刷電路板標(biāo)識。

 LED與功率器件

? 芯片制造:在藍(lán)寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu),需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠。

? Micro-LED:微米級芯片轉(zhuǎn)移和陣列化,依賴超高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)。

憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式,吉田半導(dǎo)體的材料遠(yuǎn)銷全球,并與多家跨國企業(yè)建立長期合作。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應(yīng)用于光伏、儲能等清潔能源領(lǐng)域,助力客戶實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好。公司通過導(dǎo)入國際標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證(如 ISO14001 環(huán)境管理體系),進(jìn)一步強(qiáng)化了在環(huán)保領(lǐng)域的競爭力。

未來,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)以技術(shù)創(chuàng)新為驅(qū)動,深化綠色制造戰(zhàn)略,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的低碳化、可持續(xù)發(fā)展貢獻(xiàn)力量。以品質(zhì)為依托,深化全球化布局,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展注入持續(xù)動力。
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 半導(dǎo)體集成電路

? 應(yīng)用場景:

? 晶圓制造:正性膠為主(如ArF/EUV膠),實(shí)現(xiàn)20nm以下線寬,用于晶體管柵極、接觸孔等精細(xì)結(jié)構(gòu);

? 封裝工藝:負(fù)性膠用于凸點(diǎn)(Bump)制造,厚膠(5-50μm)耐電鍍?nèi)芤焊g。

? 關(guān)鍵要求:高分辨率、低缺陷率、耐極端工藝(如150℃以上高溫、等離子體轟擊)。

 印刷電路板(PCB)

? 應(yīng)用場景:

? 線路成像:負(fù)性膠(如環(huán)化橡膠膠)用于雙面板/多層板外層線路,線寬≥50μm,耐堿性蝕刻液(如氯化銅);

? 阻焊層:厚負(fù)性膠(50-100μm)覆蓋非焊盤區(qū)域,耐260℃焊接溫度和助焊劑腐蝕;

? 撓性PCB(FPC):正性膠用于精細(xì)線路(線寬≤20μm),需耐彎曲應(yīng)力。

? 優(yōu)勢:工藝簡單、成本低,適合大面積基板(如1.2m×1.0m的PCB基板)。

 平板顯示

? 應(yīng)用場景:

? 彩色濾光片:正性膠制作黑矩陣(BM)和RGB色阻間隔層,耐UV固化和濕法蝕刻(如HF溶液);

? OLED像素定義:負(fù)性膠形成像素開口(孔徑5-50μm),耐有機(jī)溶劑(如OLED蒸鍍前的清洗液);

? 觸控面板:正性膠制作透明電極(如ITO線路),線寬≤10μm,需透光率>90%。

? 關(guān)鍵參數(shù):高透光性、低收縮率(避免圖案變形)。

負(fù)性光刻膠生產(chǎn)原料。無錫負(fù)性光刻膠價格

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,長期可靠性高,粘接強(qiáng)度高,重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如半導(dǎo)體器件制造。

其他光刻膠

  • 水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),重量 1L。
  • 水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,具備上述通用優(yōu)勢,應(yīng)用場景。


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標(biāo)簽: 光刻膠 錫片