電池芯片制造工藝的復(fù)雜性與精細度與日俱增,對生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度和濕度控制提出了極其嚴苛的要求。濕度一旦超出允許范圍,哪怕有細微波動,都極有可能致使電池芯片內(nèi)部的電路結(jié)構(gòu)發(fā)生短路現(xiàn)象,或者嚴重影響芯片的整體性能,大幅降低其充放電效率與使用壽命。精密環(huán)控柜憑借其技術(shù)實力,實現(xiàn)了對濕度的調(diào)控,將濕度穩(wěn)定性牢牢控制在極小的區(qū)間內(nèi)。同時,其配備的空氣過濾系統(tǒng),能夠高效攔截空氣中的各類塵埃、顆粒及微生物,確保生產(chǎn)環(huán)境達到超高潔凈度標(biāo)準(zhǔn)。針對新能源電子領(lǐng)域千變?nèi)f化的特殊生產(chǎn)工藝需求,精密環(huán)控柜還能提供定制化服務(wù),從內(nèi)部布局到各項環(huán)境參數(shù)的設(shè)定,都能滿足該領(lǐng)域獨特的環(huán)境要求。精密環(huán)控柜為我司自主研發(fā)的精密環(huán)境控制產(chǎn)品。航空航天恒溫恒濕潔凈房
在航空航天和新能源電子領(lǐng)域,眾多零部件的制造與檢測對環(huán)境的精密性要求極高,精密環(huán)控柜為這些關(guān)鍵環(huán)節(jié)提供了可靠保障。航空航天零部件多采用先進材料制造,其加工和檢測過程需要嚴苛的環(huán)境條件。如航空發(fā)動機葉片的精密加工,0.05℃的溫度波動都可能使機床的主軸、導(dǎo)軌等關(guān)鍵部件熱變形,導(dǎo)致葉片加工精度不達標(biāo)。精密環(huán)控柜的高精度溫度控制,確保加工環(huán)境穩(wěn)定,保障葉片加工質(zhì)量。同時,其超高水準(zhǔn)潔凈度控制,防止塵埃顆粒對航空零部件的污染,提升產(chǎn)品可靠性。除此之外,一些需要高精密環(huán)境的領(lǐng)域,也離不開精密環(huán)控柜?;瘜W(xué)恒溫恒濕調(diào)控箱設(shè)備大小可定制,能匹配各種高精密設(shè)備型號,及操作空間要求,構(gòu)建完整環(huán)境體系,保障高精密設(shè)備正常運行。
精密環(huán)控柜主要由設(shè)備主柜體、控制系統(tǒng)、氣流循環(huán)系統(tǒng)、潔凈過濾器、制冷(熱)系統(tǒng)、照明系統(tǒng)、局部氣浴等組成,為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設(shè)備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環(huán)境。該設(shè)備內(nèi)部通過風(fēng)機引導(dǎo)氣流以一定的方向循環(huán),控制系統(tǒng)對循環(huán)氣流的每個環(huán)節(jié)進行處理,從而使柜內(nèi)的溫濕度達到超高的控制精度。該系統(tǒng)可實現(xiàn)潔凈度百級、十級、一級,溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。自面世以來,已為相關(guān)領(lǐng)域客戶提供了穩(wěn)定的實驗室環(huán)境以及監(jiān)測服務(wù),獲得了眾多好評。
光學(xué)儀器的生產(chǎn)對環(huán)境的潔凈度、溫濕度有著極其嚴格的要求,精密環(huán)控柜成為保障光學(xué)儀器高質(zhì)量生產(chǎn)設(shè)備。在鏡頭研磨和鍍膜工藝中,微小的塵埃顆粒都可能在鏡頭表面留下劃痕或瑕疵,影響光線的透過和成像質(zhì)量。精密環(huán)控柜配備的高效潔凈過濾器,能夠?qū)⒖諝庵械膲m埃顆粒過濾至近乎零的水平,為鏡頭加工提供超潔凈的環(huán)境。同時,溫度的精確控制對于保證研磨盤和鏡頭材料的熱膨脹系數(shù)穩(wěn)定一致至關(guān)重要。溫度波動可能導(dǎo)致研磨盤與鏡頭之間的相對尺寸發(fā)生變化,使研磨精度受到影響,導(dǎo)致鏡頭的曲率精度和光學(xué)性能不達標(biāo)。根據(jù)高精密行業(yè)用戶的反饋,對產(chǎn)品進行持續(xù)優(yōu)化,不斷提升設(shè)備的適用性和穩(wěn)定性。
我司憑借深厚的技術(shù)積累,自主研發(fā)出高精密控溫技術(shù),精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現(xiàn)±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。該系統(tǒng)潔凈度可實現(xiàn)百級、十級、一級。關(guān)鍵區(qū)域 ±5mK(靜態(tài))的溫度穩(wěn)定性,以及均勻性小于 16mK/m 的內(nèi)部溫度規(guī)格,為諸如芯片研發(fā)這類對溫度極度敏感的項目,打造了近乎完美的溫場環(huán)境,保障實驗數(shù)據(jù)不受溫度干擾。同時,設(shè)備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達±0.5%@8h,壓力穩(wěn)定性可達+/-3Pa,長達 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂。在潔凈度方面,實現(xiàn)百級以上潔凈度控制,工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3,確保實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性與可靠性,也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。溫度傳感器的精度能達到±0.005℃以內(nèi),濕度傳感器精度達到±1% RH 以內(nèi),能夠感知環(huán)境參數(shù)的變化。北京恒溫恒濕機組
涉及超高精度的環(huán)境要求,如±0.01-0.1℃,甚至更高要求,則需要在精密恒溫恒濕超凈間中搭建精密環(huán)控系統(tǒng)。航空航天恒溫恒濕潔凈房
光刻設(shè)備對溫濕度的要求也極高,光源發(fā)出的光線需經(jīng)過一系列復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)聚焦到硅片表面特定區(qū)域,以實現(xiàn)對光刻膠的曝光,將設(shè)計好的電路圖案印制上去。當(dāng)環(huán)境溫度出現(xiàn)極其微小的波動,哪怕只是零點幾攝氏度的變化,光刻機內(nèi)部的精密光學(xué)元件就會因熱脹冷縮特性而產(chǎn)生細微的尺寸改變。這些光學(xué)元件包括鏡片、反射鏡等,它們的微小位移或形狀變化,會使得光路發(fā)生偏差。原本校準(zhǔn)、聚焦于硅片特定坐標(biāo)的光線,就可能因為光路的改變而偏離預(yù)定的曝光位置,出現(xiàn)曝光位置的漂移。航空航天恒溫恒濕潔凈房