可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻，蝕刻后板面平整光滑。劑對(duì)油墨沒(méi)有影響，可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法：1、原液使用，不須加水，操作溫度可以是25℃-60℃，溫度越高，速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來(lái)回輕輕刷動(dòng)，使藥水與銀充分均勻反應(yīng)；或者也可以用搖床，使藥水來(lái)回動(dòng)運(yùn)，使板蝕刻速度加快。但不能超聲波，以免破壞（感光）油墨。參考數(shù)據(jù)：50℃→5分鐘→0.1毫米深度。30℃→20分鐘→0.1毫米深度。3、水洗后做后續(xù)處理。蘇州性價(jià)比高的蝕刻液。格林達(dá)蝕刻液什么價(jià)格 且過(guò)濾部件能將內(nèi)部的過(guò)濾板進(jìn)行拆卸更換，有效的提高了裝置連接安裝的便利性。2.高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為千鳥(niǎo)排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面，且第二擋板具有一下表面，當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中...

本發(fā)明涉及蝕刻液組合物及選擇添加于該蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。背景技術(shù)：參照?qǐng)D1，可以確認(rèn)3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand閃存可以通過(guò)在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)來(lái)制造。在不損傷氧化物膜的同時(shí)將氮化物膜完全去除是這樣的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技術(shù)之一。一般而言，氮化物膜去除工序中所使用的蝕刻液組合物利用具有防蝕能力的添加劑以獲得在不損傷氧化物膜的同時(shí)*將氮化物膜完全去除的效果。但是，想要在不損傷氧化物膜的范圍內(nèi)將氮化物膜完全去除...

可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻，蝕刻后板面平整光滑。劑對(duì)油墨沒(méi)有影響，可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法：1、原液使用，不須加水，操作溫度可以是25℃-60℃，溫度越高，速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來(lái)回輕輕刷動(dòng)，使藥水與銀充分均勻反應(yīng)；或者也可以用搖床，使藥水來(lái)回動(dòng)運(yùn)，使板蝕刻速度加快。但不能超聲波，以免破壞（感光）油墨。參考數(shù)據(jù)：50℃→5分鐘→0.1毫米深度。30℃→20分鐘→0.1毫米深度。3、水洗后做后續(xù)處理。蝕刻液的類別一般有哪些。上海銅鈦蝕刻液蝕刻液銷售廠家 銅蝕刻液適用于印制版銅的蝕刻，蝕刻速度快。蝕刻速度達(dá)4~5um/min。廢液回收簡(jiǎn)單，用于印制板，...

內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)的震蕩彈簧件14，震蕩彈簧件14頂端的運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13，運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13頂端的控制面板15，內(nèi)部中間部位的致密防腐桿16和致密防腐桿16內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的攪動(dòng)孔17共同組合而成，由于鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性，常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕，影響蝕刻液的質(zhì)量，用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌，成本過(guò)高，且混合的效果不好，通過(guò)設(shè)置高效攪拌裝置2，該裝置通過(guò)運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12，使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12帶動(dòng)高效攪拌裝置2進(jìn)行旋轉(zhuǎn)搖勻，同時(shí)設(shè)置的震蕩彈簧件14可通過(guò)驅(qū)動(dòng)對(duì)高效攪拌裝置2進(jìn)行震蕩搖勻，高效攪拌裝置2內(nèi)部的蝕刻液通過(guò)內(nèi)置的致密防腐桿16，致密防腐桿16內(nèi)部的攪動(dòng)孔17能夠使蝕刻...

更推薦滿足。參照?qǐng)D4，在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良**少化，在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于，能夠使氧化物膜損傷不良**少。因此，在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)即aeff為2以上，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內(nèi)的情況下，上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力，由此，即使沒(méi)有消耗費(fèi)用和時(shí)間的實(shí)際的實(shí)驗(yàn)過(guò)程，也能夠選擇具有目標(biāo)防蝕能力的硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑。本發(fā)明的上述硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑推薦按照保護(hù)對(duì)...

步驟一s1：設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10，其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121；該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13，其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿該第二擋板12且錯(cuò)位設(shè)置的宣泄孔121，該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121呈千鳥(niǎo)排列的直通孔態(tài)樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離，其中該宣泄孔121的孔徑a0比較好小于3mm，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí)，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面122，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道，以借由該宣泄孔1...

所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12，所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4，所述除霧組件3用于過(guò)濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體，所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱，達(dá)到閃蒸要求的溫度，輸送至分離器，通過(guò)減壓閥12減壓，真空泵13對(duì)分離器內(nèi)抽氣，使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài)，含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸，閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽，蒸汽中攜帶著大小不等的液滴，大液滴中含有銅，通過(guò)除霧組件3和除沫組件4對(duì)蒸汽進(jìn)行分離過(guò)濾，也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出，減少產(chǎn)品損失。在一個(gè)實(shí)施例中，如圖1所示，所述除霧組件3為設(shè)有多個(gè)平行且曲折的通道的折流...

為本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖，以及其三較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖，在本實(shí)用新型其二較佳實(shí)施例中，開(kāi)設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥(niǎo)排列的直通孔態(tài)樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離，例如：圖4中所示的w1，其中w1大于圖3的w或圖5的w2，其中w2大于w，而該宣泄孔121的一孔徑a0亦小于3mm，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí)，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道，以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。此外，請(qǐng)參閱圖6與圖7所示...

當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí)，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng)，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象，亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問(wèn)題；此外，為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問(wèn)題，因此，該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小，例如：孔徑a0小于3mm，即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用，亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與...

鋁板面蝕刻用：酸、堿都行。（鋁板是兩性材料，既能與酸反應(yīng)，又能與堿反應(yīng)，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕，有的用酸性材料腐蝕，一般情況下，以酸性材料腐蝕的為多，堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨，去掉油膩、劃痕，磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣，油墨型號(hào)為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細(xì)膩，印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進(jìn)電爐內(nèi)烘干，然后用即時(shí)貼封住后面，用膠帶封邊，進(jìn)入腐蝕工藝。鋁板的腐蝕液配方如下：三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量，波美度15～20°之間，鋁板腐蝕時(shí)應(yīng)平放，在腐蝕的過(guò)程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣，應(yīng)隨時(shí)用毛刷去掉，鋁面上冒出大量泡泡，滓渣隨泡泡浮起...

也很難保證拖車在地磅頂部不移動(dòng)。在地磅的頂部平臺(tái)中設(shè)置有兩條卡塊40，卡塊與平臺(tái)之間形成一插槽，在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動(dòng)夾緊機(jī)構(gòu)，壓緊塊位于插槽中，氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連。拖車的邊緣沿插槽插入后，氣缸帶動(dòng)壓緊塊下行將拖車緊緊壓在地磅的頂部。實(shí)施例二本實(shí)施例基于實(shí)施例一。如圖2所示，在拖車的頂部設(shè)置有一圈圍設(shè)在儲(chǔ)存罐外部的護(hù)欄70，以防止其它物品碰撞儲(chǔ)存罐。實(shí)施例三本實(shí)施例基于實(shí)施例一。如圖3所示，在拖車的頂部設(shè)置有一集液盒，儲(chǔ)存罐安裝在集液盒80中，過(guò)濾器的出液管及灌裝頭的快速接頭從儲(chǔ)存罐中拔出時(shí)滴落的鋁蝕刻液，由集液盒進(jìn)行收集。實(shí)施例四本實(shí)施例基于實(shí)施例一。...

其中輸送裝置借由至少一呈順時(shí)針?lè)较蜣D(zhuǎn)動(dòng)的滾輪帶動(dòng)基板由噴灑裝置的下端部朝向風(fēng)刀裝置的***風(fēng)刀的下端部的方向移動(dòng)。如上所述的蝕刻方法，其中風(fēng)刀裝置分別借由一設(shè)置于該輸送裝置的上端部的***風(fēng)刀與一設(shè)置于該輸送裝置的下端部的第二風(fēng)刀朝向基板的上表面與下表面吹送氣體。借此，本實(shí)用新型所產(chǎn)生的技術(shù)效果：本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風(fēng)刀裝置的硬體設(shè)計(jì)，有效使風(fēng)刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄，并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?，F(xiàn)象，確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導(dǎo)...

操作人員的手會(huì)與連接構(gòu)件11接觸，海綿層12可以將操作人員手上的水分進(jìn)行吸收，避免連接構(gòu)件11的兩側(cè)與操作人員的手接觸的時(shí)候，會(huì)因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況，有效的保證了裝置內(nèi)部構(gòu)件的連接工作能正常的進(jìn)行；然后，通過(guò)連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部構(gòu)件進(jìn)行連接，連接構(gòu)件11設(shè)置有十四個(gè)，連接構(gòu)件11設(shè)置在攪拌倉(cāng)23的底部，連接構(gòu)件11與攪拌倉(cāng)23固定連接，連接構(gòu)件11能將裝置主體1內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定，且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候，不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作，在將兩構(gòu)件的連接管放在連接構(gòu)件11的兩端，再通過(guò)連接管與連接構(gòu)件11內(nèi)側(cè)兩端的螺紋管27進(jìn)行連接，通過(guò)...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過(guò)氧化氫系銅刻蝕液。過(guò)氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過(guò)硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中，產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少，刻蝕效率高且使用壽命較長(zhǎng)的特點(diǎn)。大部分過(guò)氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過(guò)氧化氫組分、參與溶解的無(wú)機(jī)酸/有機(jī)酸組分，以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個(gè)部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng)，體系中又含有過(guò)氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過(guò)程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素...

本實(shí)用涉及電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術(shù)：近年來(lái)，人們對(duì)半導(dǎo)體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時(shí)，對(duì)于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來(lái)越嚴(yán)格，而蝕刻的效果能直接導(dǎo)致電路板制造工藝的好壞，影響高密度細(xì)導(dǎo)線圖像的精度和質(zhì)量，為了解決蝕刻液組合物蝕刻鋁材料過(guò)程中，對(duì)蝕刻速率慢、難以控制蝕刻角度和不同金屬層的蝕刻量而造成的多層配線的半導(dǎo)體裝置的配線的斷路、短路，得到較高的成品率，為保證其穩(wěn)定性及蝕刻的平滑度及精度，在蝕刻液中需要加入多種組分，而常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合?，F(xiàn)有的高蝕刻速率...

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現(xiàn)象，確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢(shì)。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50，該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部，且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間，其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上，以對(duì)該基板20進(jìn)行一濕式蝕刻制程；由上述的說(shuō)明，擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對(duì)已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進(jìn)行蝕刻制程，故仍舊會(huì)有少量的藥液51噴灑...

一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學(xué)蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。背景技術(shù)：2.目前，電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜，以便后續(xù)給電子器件可控通電。該ito膜通常通過(guò)化學(xué)蝕刻的方法蝕刻ito材料層形成。其中，對(duì)于多晶ito(p-ito)材料，所用蝕刻液主要包括硫酸系、王水系ito蝕刻液。王水系蝕刻液成本低，但其蝕刻速度快，蝕刻的角度難以控制，且容易對(duì)ito膜的下層金屬造成二次腐蝕。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：3.有鑒于此，為克服目前存在的技術(shù)難題，本技術(shù)提供了一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過(guò)氧化氫系銅刻蝕液。過(guò)氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過(guò)硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中，產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少，刻蝕效率高且使用壽命較長(zhǎng)的特點(diǎn)。大部分過(guò)氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過(guò)氧化氫組分、參與溶解的無(wú)機(jī)酸/有機(jī)酸組分，以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個(gè)部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng)，體系中又含有過(guò)氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過(guò)程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素...

對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例，基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。實(shí)施例一，請(qǐng)參閱圖1-4，本實(shí)用新型提供技術(shù)方案：高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體1、支撐腿2、電源線3和單片機(jī)4，裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2，裝置主體1的后面一側(cè)底部固定連接有電源線3，裝置主體1的一側(cè)中間部位固定連接有控制器5，裝置主體1的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機(jī)4，裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲(chǔ)罐14，裝...

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現(xiàn)象，確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢(shì)。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50，該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部，且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間，其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上，以對(duì)該基板20進(jìn)行一濕式蝕刻制程；由上述的說(shuō)明，擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對(duì)已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進(jìn)行蝕刻制程，故仍舊會(huì)有少量的藥液51噴灑...

目前的平面顯示裝置，尤其是有機(jī)電激發(fā)光顯示器，多使用鉻金屬作為導(dǎo)線的材料。但是因?yàn)殂t金屬的阻值高，因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導(dǎo)線的材料。以往曾經(jīng)有提議以銀作為平面顯示裝置的導(dǎo)線材料，但是因?yàn)闊o(wú)適當(dāng)穩(wěn)定的蝕刻液組成物，所以并未有***的運(yùn)用。近幾年為提高平面顯示裝置的效能，研究者仍專注于如何降低導(dǎo)線材料的電阻值。銀合金目前被視為適當(dāng)?shù)膶?dǎo)線材料，因其阻值低于其他的金屬。此外，含銀量超過(guò)80％以上的銀合金，雖然阻值未若銀金屬一般低，但是其阻值遠(yuǎn)低于鉻金屬。然而由于銀合金未具有適當(dāng)?shù)奈g刻液，所以并沒(méi)有廣泛應(yīng)用于晶片或面板的黃光制程。發(fā)明人爰因于此，本于積極發(fā)明的精神，亟思一...

以帶動(dòng)該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動(dòng)。該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部，該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41，以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42，其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20，以將該基板20上的一藥液51帶往與相反于該基板20的行進(jìn)方向，以使該基板20上該藥液51減少，其中該氣體43遠(yuǎn)離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3，且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。此外，請(qǐng)一并參閱圖8與圖9所示，為本實(shí)用新型蝕...

鋁板面蝕刻用：酸、堿都行。（鋁板是兩性材料，既能與酸反應(yīng)，又能與堿反應(yīng)，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕，有的用酸性材料腐蝕，一般情況下，以酸性材料腐蝕的為多，堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨，去掉油膩、劃痕，磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣，油墨型號(hào)為80-39、80-59、80-49等。這種耐腐蝕油墨細(xì)膩，印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進(jìn)電爐內(nèi)烘干，然后用即時(shí)貼封住后面，用膠帶封邊，進(jìn)入腐蝕工藝。鋁板的腐蝕液配方如下：三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量，波美度15～20°之間，鋁板腐蝕時(shí)應(yīng)平放，在腐蝕的過(guò)程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣，應(yīng)隨時(shí)用毛刷去掉，鋁面上冒出大量泡泡，滓渣隨泡泡浮起...

所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為，所述酸的濃度為20重量％至70重量％，所述有機(jī)硫化合物的濃度為％至10重量％。另外，所述α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度推薦為％至5重量％。另外，本發(fā)明涉及一種使用所述蝕刻液在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻方法。發(fā)明的效果本發(fā)明的蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦。另外，本發(fā)明的蝕刻液實(shí)質(zhì)上不含氫氟酸及過(guò)氧化氫，因此毒性低，保存穩(wěn)定性優(yōu)異。具體實(shí)施方式...

步驟一s1：設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10，其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121；該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13，其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿該第二擋板12且錯(cuò)位設(shè)置的宣泄孔121，該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121呈千鳥(niǎo)排列的直通孔態(tài)樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離，其中該宣泄孔121的孔徑a0比較好小于3mm，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí)，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面122，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道，以借由該宣泄孔1...

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的目的在于提供高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差，連接安裝步驟繁瑣的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機(jī)，所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿，所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線，所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器，所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機(jī)，所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲(chǔ)罐，所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲(chǔ)罐，所述磷酸儲(chǔ)罐的底部固定連接有攪拌倉(cāng)，所述攪拌倉(cāng)的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機(jī)，所述攪...

本實(shí)用新型有關(guān)于一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，尤其是指一種適用于濕式蝕刻機(jī)的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備。背景技術(shù)：請(qǐng)參閱圖1所示，為傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)的整體設(shè)置示意圖，其中一實(shí)心pvc板態(tài)樣的擋液板結(jié)構(gòu)a設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)(圖式未標(biāo)示)內(nèi)，主要用以阻擋一蝕刻藥液(圖式未標(biāo)示)對(duì)設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)a下方的基板(圖式未標(biāo)示)的噴濺而造成蝕刻不均勻的現(xiàn)象，并且在濕式蝕刻的制程步驟中，該基板設(shè)置于二風(fēng)刀b之間，當(dāng)該基板設(shè)置于一輸送裝置(圖式未標(biāo)示)而由該擋液板結(jié)構(gòu)a的左方接受蝕刻藥液蝕刻后移動(dòng)至風(fēng)刀b之間，該等風(fēng)刀b再噴出一氣體c到該基板的表面以...

本實(shí)用涉及電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術(shù)：近年來(lái)，人們對(duì)半導(dǎo)體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時(shí)，對(duì)于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來(lái)越嚴(yán)格，而蝕刻的效果能直接導(dǎo)致電路板制造工藝的好壞，影響高密度細(xì)導(dǎo)線圖像的精度和質(zhì)量，為了解決蝕刻液組合物蝕刻鋁材料過(guò)程中，對(duì)蝕刻速率慢、難以控制蝕刻角度和不同金屬層的蝕刻量而造成的多層配線的半導(dǎo)體裝置的配線的斷路、短路，得到較高的成品率，為保證其穩(wěn)定性及蝕刻的平滑度及精度，在蝕刻液中需要加入多種組分，而常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合?，F(xiàn)有的高蝕刻速率...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為千鳥(niǎo)排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面，且第二擋板具有一下表面，當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中...