半導體真空插板閥是一種用于半導體制造過程中的真空系統(tǒng)的閥門,主要作用是控制氣體的流動,以維持真空環(huán)境的穩(wěn)定。微泰半導體真空腔體用閘閥(插板閥)其特點包括:1. 高密封性:采用特殊的密封結構,能夠有效地防止氣體泄漏,保證真空系統(tǒng)的密封性。2. 耐腐蝕性:材料具有良好的耐腐蝕性,能夠在半導體制造過程中的化學物質環(huán)境中穩(wěn)定工作。3. 高精度:能夠精確地控制氣體的流量,滿足半導體制造工藝對精度的要求。4. 快速響應:可以快速地開啟和關閉,以適應半導體制造過程中的快速氣體控制需求。5. 可靠性高:設計和制造過程嚴格,保證了其在長期使用中的可靠性和穩(wěn)定性。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。高壓閘閥按閥桿螺紋的位置分外螺紋式、內螺紋式、法蘭、焊接等。按介質的流向分,有直通式、直流式和角式。高壓閘閥Micron
微泰,定制大型轉移閥,定制大型輸送閥,?應用:大型涂層系統(tǒng)。定制大型轉移閥,定制大型輸送閥規(guī)格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸:(內徑)80×500、(內徑)100×400、(內徑)200×1800、(內徑)650×1050等法蘭類型:定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門上的壓差≤1000 mbar、泄漏率:泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護前可用次數(shù):10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:材料:不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6 ~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽6ㄖ崎l閥AKT閘閥多應用于石油、天然氣等輸送管線上,在半導體加工工程設備上也多用閘閥。
微泰,傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉換閥、輸送閥、轉移閥應用于晶圓加工,半導體加工,可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設計? 使用維修配件工具包易于維護? 應用:半導體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉移閥規(guī)格如下:閘門密封類型:傳輸閥 (I-MOTION)、右動轉換閥、驅動方式:氣動、法蘭尺寸(內徑) 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式:焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、工作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差:≤ 30 mbar、開啟時壓差: ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼:< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁:< 1×10 -5 mbar ?/秒、維護前可用次數(shù): ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽?/p>
半導體主加工設備腔內精確壓力控制的解決方案,真空插板閥品牌—微泰??刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導體? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備中的主要閥門??刂葡到y(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用,通過控制系統(tǒng)自動調節(jié)閘板的開啟和關閉。精確控制腔內壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作,而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。介質可向兩側任意方向流動,易于安裝。閘閥通道兩側是對稱的。
微泰的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體 PVD CVD 設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng),起著將工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的關鍵作用,就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時造成的真空壓力變化,使腔室內的真空壓力得以穩(wěn)定維持。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產(chǎn)品范圍包括多種尺寸規(guī)格,如 32 x 222、46 x 236、50 x 336、56 x 500 等。維護前使用周期可達 100 萬次,響應時間為 2 秒,并可根據(jù)客戶要求定制法蘭。這些轉移閥產(chǎn)品有鋁制或不銹鋼制兩種,用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。I 型的特點是葉片能在垂直方向上快速移動,保證腔室壓力完美維持,它采用具有 LM 導向系統(tǒng)和單連桿的內部機構,確保高耐用性和長壽命。L 型轉移閥產(chǎn)品則設計緊湊,易于維護。I 型和 L 型轉移閥在閘門開啟和關閉過程中能極大限度地減少振動,且對溫度變化非常穩(wěn)定,能確保較長的使用壽命。此外,它們即使長時間使用,產(chǎn)生的顆粒也很少,能避免晶圓缺陷和主器件污染。微泰不斷創(chuàng)新,在壓力控制和控制閥制造方面持續(xù)努力,專注于真空閘閥的研發(fā)。正確安裝、定期維護以及遵守制造商指南對于這些閥門的性能發(fā)揮和使用壽命至關重要。高壓閘閥Micron
真空閘閥廣泛應用于各種真空系統(tǒng)和工藝過程中,如半導體生產(chǎn)、電子設備制造、科研實驗、航空航天等領域。高壓閘閥Micron
微泰,大閘閥、大型閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶹AT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點是*陶瓷球機構產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸(內徑):16? ~ 30?、 法蘭型:ISO、JIS、ASA 、饋通:Viton O-Rin、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:可調節(jié)、工作壓力范圍:1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護前可用次數(shù):10,000 ~ 100,000次、開啟時壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9 mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽?高壓閘閥Micron