EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)
應用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)
EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。
EVG ® 510 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
閉環(huán)冷卻水供應選項
外部浮雕和冷卻站 納米壓印設(shè)備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。福建納米壓印免稅價格
對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術(shù)應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
微透鏡納米壓印用途是什么EVG ? 770是分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)，使用分步重復納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作。
EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)
分步重復納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作
EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應用需求的靈活性。
HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應用程序的生產(chǎn)，包括用于增強/虛擬現(xiàn)實（AR / VR）頭戴式耳機的光學設(shè)備，3D傳感器，生物醫(yī)學設(shè)備，納米光子學和等離激元學。
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
納米壓印設(shè)備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。河南納米壓印微流控應用
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。福建納米壓印免稅價格
EVG ® 7200 LA特征：
專有SmartNIL ®技術(shù)，提供了****的印跡形大面積
經(jīng)過驗證的技術(shù)，具有出色的復制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本
強大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）
解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）
對準：可選的光學對準：≤±15 μm
自動分離：支持的
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
福建納米壓印免稅價格
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家其他型企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責任公司企業(yè)，一直“以人為本，服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司始終堅持客戶需求優(yōu)先的原則，致力于提供高質(zhì)量的磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠的服務(wù)、創(chuàng)新的理念、***的產(chǎn)品，為彼此贏得全新的未來！