湖北半導體設(shè)備納米壓印

來源: 發(fā)布時間:2020-08-12

EVG ® 6200 NT是SmartNIL

UV納米壓印光刻系統(tǒng)。


用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術(shù)范圍達150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,以最小的占地面積提供了最

新的掩模對準技術(shù)。操作員友好型軟件,最短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。


EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。湖北半導體設(shè)備納米壓印

EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)

特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗證的熱壓印系統(tǒng),可滿足最 高要求

EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑最 大為200 mm的基板,并且與標準的半導體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。


如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 碳化硅納米壓印干涉測量應(yīng)用 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以最小的占位面積提供了最 新的掩模對準技術(shù)。

SmartNIL技術(shù)簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)無與倫比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。


EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持最 新的UV-LED技術(shù)

最小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:最 大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:最 大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積無與倫比的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù),將納米壓印光刻(NIL)縮放為第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的最經(jīng)濟有效的方法,因為它不受光學系統(tǒng)的限制,并且可以為最小的結(jié)構(gòu)提供最 佳的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能(包括無與倫比的易用性)以及高水平的工藝專業(yè)知識,EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板 EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場領(lǐng)先設(shè)備供應(yīng)商。EVG720納米壓印美元價

岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。湖北半導體設(shè)備納米壓印

       EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說:“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對zui復雜的挑戰(zhàn),幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù),我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?!霸诰哂斜Wo客戶IP的強大政策的框架內(nèi),我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們今 天與AR領(lǐng)域的領(lǐng) 先者WaveOptics合作所要做的,以為zui終客戶提供真正可擴展的解決方案?!?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業(yè),企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應(yīng)用,并遵循公司模塊計劃的推出。 湖北半導體設(shè)備納米壓印

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