浙江PSP光刻機(jī)光源波長405微米 值得信賴 上海跡亞國際商貿(mào)供應(yīng)

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發(fā)布時間:2025-07-11

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SPS POLOS 以緊湊的桌面設(shè)計降低實驗室設(shè)備投入,光束引擎通過壓電驅(qū)動實現(xiàn)高速掃描(單次寫入400 m區(qū)域)。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,成功制備3 m間距微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速驗證。其無掩模特性進(jìn)一步減少材料浪費,為中小型實驗室提供經(jīng)濟(jì)解決方案62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。Polos-BESM 光刻機(jī):無掩模激光技術(shù),成本降低 50%,任意圖案輕松輸入,適配實驗室微納加工。浙江PSP光刻機(jī)光源波長405微米

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低成本桌面化光刻:SPS POLOS 的科研普惠!Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細(xì)胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片研發(fā),如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。陜西POLOSBEAM光刻機(jī)分辨率1.5微米亞微米級精度:0.8 mmost小線寬,支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造。

浙江PSP光刻機(jī)光源波長405微米,光刻機(jī)

在微流體領(lǐng)域,Polos系列光刻機(jī)通過無掩模技術(shù)實現(xiàn)了復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細(xì)胞球浸潤行為,為組織工程提供了新型生物界面設(shè)計策略10。Polos設(shè)備的精度與靈活性可支持此類仿生結(jié)構(gòu)的批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā)。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。

在tumor轉(zhuǎn)移機(jī)制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機(jī)構(gòu)建了仿生tumor微環(huán)境芯片。通過無掩模激光光刻技術(shù),在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網(wǎng)絡(luò)與間質(zhì)纖維化結(jié)構(gòu),其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,tumor細(xì)胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數(shù)據(jù)高度吻合。該團(tuán)隊通過軟件實時調(diào)整通道曲率和細(xì)胞外基質(zhì)密度,成功復(fù)現(xiàn)了tumor細(xì)胞上皮 - 間質(zhì)轉(zhuǎn)化(EMT)過程,相關(guān)成果發(fā)表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉(zhuǎn)移藥物的篩選平臺開發(fā)。POLOS :超緊湊設(shè)計,納米級精度專攻微流控與細(xì)胞芯片。

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某半導(dǎo)體實驗室采用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)氮化鎵(GaN)基高電子遷移率晶體管(HEMT)。其激光直寫技術(shù)在藍(lán)寶石襯底上實現(xiàn)了 50nm 柵極長度的precise曝光,較傳統(tǒng)光刻工藝線寬偏差降低 60%。通過自定義多晶硅柵極圖案,器件的電子遷移率達(dá) 2000 cm/(Vs),擊穿電壓提升至 1200V,遠(yuǎn)超商用產(chǎn)品水平。該技術(shù)還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕,刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%,助力我國新能源汽車電控系統(tǒng)core器件的國產(chǎn)化突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。微流體領(lǐng)域:支持 1-100μm 微通道定制,助力organ芯片血管網(wǎng)絡(luò)precise建模。浙江PSP光刻機(jī)光源波長405微米

微型傳感器量產(chǎn):80 m開環(huán)諧振器加工能力,推動工業(yè)級MEMS傳感器升級。浙江PSP光刻機(jī)光源波長405微米

在航空航天科研中,某科研團(tuán)隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機(jī)械部件是關(guān)鍵。德國 Polos 光刻機(jī)憑借無掩模激光光刻技術(shù),助力團(tuán)隊制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機(jī)翼骨架等微機(jī)械結(jié)構(gòu)。例如,利用該光刻機(jī)制造的微型齒輪,齒距精度達(dá)到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性;诖,科研團(tuán)隊成功試飛了一款新型微型飛行器,其續(xù)航時間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品,為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅實基礎(chǔ)。浙江PSP光刻機(jī)光源波長405微米

 

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