惠州負(fù)性光刻膠多少錢(qián) 吉田半導(dǎo)體供應(yīng)

發(fā)貨地點(diǎn):廣東省東莞市

發(fā)布時(shí)間:2025-04-23

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詳細(xì)信息

以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動(dòng),吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā),搶占行業(yè)制高點(diǎn)。布局下一代光刻技術(shù)。
面對(duì)極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn),吉田半導(dǎo)體與中科院合作開(kāi)發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠,在感光效率(<10mJ/cm)和耐蝕性(>80%)指標(biāo)上取得階段性進(jìn)展。同時(shí),公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā),對(duì)標(biāo)日本王子控股技術(shù),探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用。這些技術(shù)儲(chǔ)備為 7nm 及以下制程提供支撐,助力中國(guó)在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。吉田市場(chǎng)定位與未來(lái)布局;葜葚(fù)性光刻膠多少錢(qián)

惠州負(fù)性光刻膠多少錢(qián),光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景,如一些特殊的電路板制造。

SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng)。重量為 100g,常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,能滿(mǎn)足其對(duì)光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠:耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,長(zhǎng)期可靠性高,粘接強(qiáng)度高。重量 100g,適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如一些半導(dǎo)體器件的制造。 青島阻焊油墨光刻膠品牌光刻膠的顯示面板領(lǐng)域。

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正性光刻膠

  • 半導(dǎo)體分立器件制造:對(duì)于二極管、三極管等半導(dǎo)體分立器件,正性光刻膠可實(shí)現(xiàn)精細(xì)的圖形化加工,滿(mǎn)足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時(shí),正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對(duì)比度,能精確刻畫(huà)器件的結(jié)構(gòu),提高器件性能。
  • 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)制造:MEMS 器件如加速度計(jì)、陀螺儀等,結(jié)構(gòu)復(fù)雜且尺寸微小。正性光刻膠用于 MEMS 制造過(guò)程中的光刻步驟,可在硅片等材料上制作出高精度的微結(jié)構(gòu),確保 MEMS 器件的功能實(shí)現(xiàn)。


吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "專(zhuān)精特新" 企業(yè),行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為,吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專(zhuān)精特新企業(yè)" 稱(chēng)號(hào),樹(shù)立行業(yè)。
憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn),吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "廣東省專(zhuān)精特新企業(yè)"" ",承擔(dān)多項(xiàng)國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)課題。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹(shù)脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),推動(dòng)國(guó)產(chǎn)材料標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程。未來(lái),吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國(guó)半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景,深化技術(shù)研發(fā)與市場(chǎng)拓展,為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻(xiàn)" 中國(guó)力量 "。光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,23 年專(zhuān)注研發(fā),全系列產(chǎn)品覆蓋芯片制造與 LCD 面板!

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定義與特性

負(fù)性光刻膠是一種在曝光后,未曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,形成與掩膜版(Mask)圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比,其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng)、工藝簡(jiǎn)單、成本低,但分辨率較低(通!1μm),主要應(yīng)用于對(duì)精度要求相對(duì)較低、需要厚膠或高耐腐蝕性的場(chǎng)景。

化學(xué)組成與工作原理

 主要成分

 基體樹(shù)脂:

早期以聚異戊二烯橡膠(天然或合成)為主,目前常用環(huán)化橡膠(Cyclized Rubber)或聚乙烯醇肉桂酸酯,提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性。

 光敏劑:

主要為雙疊氮化合物(如雙疊氮芪)或重氮醌類(lèi)衍生物,占比約5%-10%,吸收紫外光后引發(fā)交聯(lián)反應(yīng)。

 交聯(lián)劑:

如六亞甲基四胺(烏洛托品),在曝光后與樹(shù)脂發(fā)生交聯(lián),形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。

 溶劑:

多為有機(jī)溶劑(如二甲苯、環(huán)己酮),溶解樹(shù)脂和光敏劑,涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜。

 工作原理

 曝光前:光敏劑和交聯(lián)劑均勻分散在樹(shù)脂中,膠膜可溶于顯影液(有機(jī)溶劑)。

 曝光時(shí):

光敏劑吸收紫外光(G線436nm為主)后產(chǎn)生活性自由基,引發(fā)交聯(lián)劑與樹(shù)脂分子間的共價(jià)鍵交聯(lián),使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。

 顯影后:

未曝光區(qū)域的樹(shù)脂因未交聯(lián),被顯影液溶解去除,曝光區(qū)域保留,形成負(fù)性圖案(與掩膜版相反)。
光刻膠:半導(dǎo)體之路上的挑戰(zhàn)與突破。廣州阻焊光刻膠報(bào)價(jià)

嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì),吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢(shì);葜葚(fù)性光刻膠多少錢(qián)

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),是一家專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)與銷(xiāo)售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元,擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn),產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等,服務(wù)全球市場(chǎng)并與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作關(guān)系。
作為國(guó)家技術(shù)企業(yè),吉田半導(dǎo)體以科技創(chuàng)新為驅(qū)動(dòng)力,擁有多項(xiàng)技術(shù),并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量體系認(rèn)證。生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格遵循 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn),原材料均采用美、德、日等國(guó)進(jìn)口的材料,確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠。公司配備全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備,具備行業(yè)大型的規(guī)模化生產(chǎn)能力,致力于成為 “半導(dǎo)體材料方案提供商”。
其明星產(chǎn)品包括:適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300,具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能;3 微米負(fù)性光刻膠 SU-3,適用于厚膜工藝;耐高溫達(dá) 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000,可滿(mǎn)足高精度微納加工需求。所有產(chǎn)品均符合要求,部分型號(hào)通過(guò)歐盟 ROHS 認(rèn)證。
惠州負(fù)性光刻膠多少錢(qián)

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著雄厚實(shí)力背景、信譽(yù)可靠、勵(lì)精圖治、展望未來(lái)、有夢(mèng)想有目標(biāo),有組織有體系的公司,堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來(lái)的道路上大放光明,攜手共畫(huà)藍(lán)圖,在廣東省等地區(qū)的電工電氣行業(yè)中積累了大批忠誠(chéng)的客戶(hù)粉絲源,也收獲了良好的用戶(hù)口碑,為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ),也希望未來(lái)公司能成為行業(yè)的翹楚,努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量,我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息,斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將引領(lǐng)吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手步入輝煌,共創(chuàng)佳績(jī),一直以來(lái),公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針,員工精誠(chéng)努力,協(xié)同奮取,以品質(zhì)、服務(wù)來(lái)贏得市場(chǎng),我們一直在路上!

 

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