不同光刻膠類型的適用場景對比
類型 波長范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導(dǎo)體YK-300系列
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片、OLED電極圖案化 國際主流：JSR ARF系列
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進(jìn)制程、3D NAND堆疊 研發(fā)中（吉田半導(dǎo)體合作攻關(guān)）
水性光刻膠 全波長適配 5-50μm 柔性顯示、環(huán)保PCB阻焊層 吉田半導(dǎo)體WT-200系列
總結(jié)：多領(lǐng)域滲透的“工業(yè)維生素”
光刻膠的應(yīng)用深度綁定電子信息產(chǎn)業(yè)，從半導(dǎo)體芯片的“納米級雕刻”到PCB的“毫米級線路”，再到顯示面板的“色彩精細(xì)控制”，其技術(shù)參數(shù)（分辨率、耐蝕刻性、靈敏度）需根據(jù)場景設(shè)計(jì)。隨著**新能源（車規(guī)芯片、光伏）、新型顯示（Micro LED）、先進(jìn)制造（納米壓�。�**等領(lǐng)域的發(fā)展，光刻膠的應(yīng)用邊界將持續(xù)擴(kuò)展，成為支撐制造的關(guān)鍵材料。
吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠。成都納米壓印光刻膠感光膠
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量優(yōu)勢，在半導(dǎo)體材料行業(yè)占據(jù)重要地位。公司聚焦光刻膠、電子膠、錫膏等產(chǎn)品，其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強(qiáng)酸強(qiáng)堿環(huán)境，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造；LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細(xì)度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料。此外，公司還提供焊片、靶材等配套材料，滿足客戶多元化需求。
在技術(shù)層面，吉田半導(dǎo)體通過自主研發(fā)與國際合作結(jié)合，持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)工藝，實(shí)現(xiàn)全流程自動(dòng)化控制。其生產(chǎn)基地配備先進(jìn)設(shè)備，并嚴(yán)格執(zhí)行國際標(biāo)準(zhǔn)，確保產(chǎn)品性能達(dá)到國際水平。同時(shí)，公司注重人才培養(yǎng)與引進(jìn)，匯聚化工、材料學(xué)等領(lǐng)域的專業(yè)團(tuán)隊(duì)，為技術(shù)創(chuàng)新提供堅(jiān)實(shí)支撐。未來，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以 “中國前列半導(dǎo)體材料方案提供商” 為愿景，推動(dòng)行業(yè)技術(shù)升級與國產(chǎn)化進(jìn)程。
成都納米壓印光刻膠感光膠吉田半導(dǎo)體材料的綠色環(huán)保與可持續(xù)發(fā)展。
主要優(yōu)勢：細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同
技術(shù)積累與自主化能力
公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，實(shí)現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，分辨率達(dá)3μm，適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域，填補(bǔ)了國內(nèi)空白。
技術(shù)壁壘：掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級，金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。
產(chǎn)品多元化與技術(shù)化布局
產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如：
LCD光刻膠：適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù)，與京東方、TCL華星合作開發(fā)高分辨率產(chǎn)品，良率提升至98%。
半導(dǎo)體錫膏：供應(yīng)華為、OPPO等企業(yè)，年采購量超200噸，用于5G手機(jī)主板封裝。
技術(shù)化延伸：計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)，目標(biāo)進(jìn)入中芯國際、長江存儲(chǔ)供應(yīng)鏈。
質(zhì)量控制與生產(chǎn)能力
通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認(rèn)證，生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美、德、日進(jìn)口高質(zhì)量材料。擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)線，年產(chǎn)能達(dá)2000噸（光刻膠及配套材料），支持大規(guī)模訂單交付。
國家大基金三期：注冊資本3440億元，明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域，計(jì)劃投入超500億元支持樹脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā)，相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。
地方專項(xiàng)政策：湖北省對通過驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購補(bǔ)貼+稅收減免，武漢太紫微憑借全流程國產(chǎn)化技術(shù)獲中芯國際百萬級訂單；福建省提出2030年化工新材料自給率達(dá)90%，光刻膠是重點(diǎn)突破方向。
研發(fā)專項(xiàng)：科技部“雙十計(jì)劃”設(shè)立20億元經(jīng)費(fèi)，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率突破10%，并啟動(dòng)EUV光刻膠預(yù)研。
PCB光刻膠國產(chǎn)化率超50%。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。
厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。
負(fù)性光刻膠
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SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。
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負(fù)性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率、良好的對比度和高曝光靈敏度，光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對光刻精度要求高的領(lǐng)域，如半導(dǎo)體器件制造。
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耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100：重量 1L，具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝，如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。
光刻膠生產(chǎn)工藝流程與應(yīng)用。浙江光刻膠國產(chǎn)廠家
聚焦封裝需求，吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務(wù)。成都納米壓印光刻膠感光膠
技術(shù)挑戰(zhàn)
光刻膠作為半導(dǎo)體、顯示面板等高級制造的材料，其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面
成都納米壓印光刻膠感光膠
高分辨率：隨著半導(dǎo)體制程向3nm、2nm推進(jìn)，需開發(fā)更高精度的EUV光刻膠，解決光斑擴(kuò)散、線寬控制等問題。
靈敏度與穩(wěn)定性：平衡感光速度和圖案抗蝕能力，適應(yīng)極紫外光（13.5nm）的低能量曝光。
國產(chǎn)化替代：目前光刻膠（如EUV、ArF浸沒式）長期被日本、美國企業(yè)壟斷，國內(nèi)正加速研發(fā)突破。
光刻膠的性能直接影響芯片制造的良率和精度，是支撐微電子產(chǎn)業(yè)的“卡脖子”材料之一。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著雄厚實(shí)力背景、信譽(yù)可靠、勵(lì)精圖治、展望未來、有夢想有目標(biāo)，有組織有體系的公司，堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來的道路上大放光明，攜手共畫藍(lán)圖，在廣東省等地區(qū)的電工電氣行業(yè)中積累了大批忠誠的客戶粉絲源，也收獲了良好的用戶口碑，為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ)，也希望未來公司能成為行業(yè)的翹楚，努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量，我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息，斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將引領(lǐng)吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手步入輝煌，共創(chuàng)佳績，一直以來，公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠實(shí)守信的方針，員工精誠努力，協(xié)同奮取，以品質(zhì)、服務(wù)來贏得市場，我們一直在路上！
